การรองรับการหมุนของกราไฟท์

Wafer vensceptor เป็นสิ่งจำเป็นสำหรับกระบวนการเจริญเติบโตของ epitaxial ในระหว่างการเจริญเติบโตของ epitaxial สารตั้งต้นของเวเฟอร์จะถูกวางไว้ใน sensceptor.VETEK Semiconductor กราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงไวต่อการหมุนของอุปกรณ์การประมวลผลวัสดุภายใต้อุณหภูมิสูงและสภาพแวดล้อมสุญญากาศสูง ในการเติบโตของ epitaxial ของแกลเลียมไนไตรด์ (กระบวนการ MOCVD) พวกเขามีบทบาทสนับสนุนในการหมุนของสารตั้งต้น VETEK SEMICONDUCTOR ของ VETATION GRAGHITE ASPECECTOR มีข้อได้เปรียบดังต่อไปนี้:

●ความบริสุทธิ์สูง: เนื้อหาของสิ่งเจือปนในกราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงนั้นต่ำกว่า 5ppm กราไฟท์ความบริสุทธิ์ระดับนี้สามารถหลีกเลี่ยงการปลดปล่อยสิ่งสกปรกที่อุณหภูมิสูงเพื่อให้แน่ใจว่ากระบวนการทำความสะอาดของกระบวนการสะสม ดังนั้นจึงไม่จำเป็นต้องมีการเคลือบตามข้อกำหนดการทำงาน

กราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูง

●คุณสมบัติความร้อนที่ยอดเยี่ยม: กราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงมีค่าการนำความร้อนที่ยอดเยี่ยมและการนำความร้อนสูงกว่าวัสดุอื่น ๆ ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวทางความร้อนมีขนาดเล็กและสามารถรักษาประสิทธิภาพที่มั่นคงเมื่อประสบกับการเปลี่ยนแปลงของอุณหภูมิ

●คุณสมบัติเชิงกลที่ดี: กราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงมีความต้านทานการสึกหรอที่ดีและความทนทานซึ่งสามารถตอบสนองความต้องการที่ซับซ้อนของกระบวนการ CVD

●ค่าการนำไฟฟ้าที่ยอดเยี่ยม: ค่าการนำไฟฟ้าสูงกว่าแร่ธาตุทั่วไปที่ไม่ใช่โลหะทั่วไปหนึ่งร้อยเท่า

●เสถียรภาพทางเคมี: สามารถต้านทานการกัดกร่อนจากกรดอัลคาลิสและตัวทำละลายอินทรีย์

ยิ่งไปกว่านั้นในฐานะผู้ผลิตชั้นนำและซัพพลายเออร์ของความบริสุทธิ์กราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงsic -coated graphite ensceptor สำหรับ MOCVD, sic -coated barrel barrel, รองรับกราไฟท์เคลือบ TACและMOCVD SIC.Vetek Semiconductor มุ่งมั่นที่จะจัดหาเทคโนโลยีขั้นสูงและโซลูชั่นผลิตภัณฑ์สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์และยังสนับสนุนบริการที่กำหนดเอง เราหวังเป็นอย่างยิ่งว่าจะได้เป็นหุ้นส่วนระยะยาวของคุณในประเทศจีน

มันเป็นเซมิคอนดักเตอร์ร้านขายผลิตภัณฑ์ไวยากรณ์การหมุนกราไฟท์: