บริการสนับสนุน

VeTek Semiconductor จัดหาเวเฟอร์ผลึกเดี่ยวอะลูมิเนียมไนไตรด์ (AlN) คุณภาพสูงและซับสเตรตสำหรับอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์แถบความถี่กว้างพิเศษรุ่นต่อไป ด้วยแถบความถี่กว้างพิเศษประมาณ 6.2 eV ค่าการนำความร้อนที่โดดเด่น ฉนวนไฟฟ้าที่ยอดเยี่ยม และการจับคู่ตาข่ายและการขยายความร้อนที่ยอดเยี่ยมกับ GaN เวเฟอร์ AlN จึงเหมาะอย่างยิ่งสำหรับอุปกรณ์ RF กำลังสูง อุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์กำลังแรงสูง และออปโตอิเล็กทรอนิกส์อัลตราไวโอเลตลึก (DUV)

บริการทำความสะอาดระดับมืออาชีพของ VETEK สำหรับชิ้นส่วนกราไฟท์เคลือบ SiC เคลือบ CVD เป็นบริการด้านเทคนิคเฉพาะทางที่ออกแบบมาสำหรับตัวรับอุปกรณ์ Aixtron / Veeco MOCVD และส่วนประกอบกราไฟท์ที่ใช้ในกระบวนการ epitaxial ของ GaN / AlN / AlGaN กระบวนการทำความสะอาดที่เป็นเอกสิทธิ์ของเราขจัดผลกระทบจากหน่วยความจำพื้นผิวอย่างทั่วถึง คืนการไหลของก๊าซที่เสถียรในเครื่องปฏิกรณ์ และปกป้องการเคลือบ CVD SiC ขนาด 100 µm อย่างเคร่งครัดด้วยการสูญเสียความหนาเป็นศูนย์แน่นอนและไม่มีเศษโลหะเหลืออยู่

เนื่องจากความต้องการทรานสดิวเซอร์ MEMS ความไวสูงและพลังงานต่ำเพิ่มขึ้นพร้อมกับการขยายตัวของการสื่อสาร 5G อุปกรณ์ทางการแพทย์ที่มีความแม่นยำ และอุปกรณ์สวมใส่อัจฉริยะ PZT ของเราบนเวเฟอร์ Si/SOI มอบโซลูชันวัสดุที่สำคัญ ด้วยการใช้กระบวนการสะสมฟิล์มบางขั้นสูง เช่น โซลเจลหรือสปัตเตอร์ เราจึงได้ความสม่ำเสมอที่ยอดเยี่ยมและประสิทธิภาพเพียโซอิเล็กทริกที่เหนือกว่าบนพื้นผิวซิลิกอน เวเฟอร์เหล่านี้ทำหน้าที่เป็นแกนหลักพื้นฐานสำหรับการแปลงพลังงานเครื่องกลไฟฟ้า

การเติบโตของผลึกซิลิคอนคาร์ไบด์เป็นกระบวนการหลักในการผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ประสิทธิภาพสูง ความเสถียร ความแม่นยำ และความเข้ากันได้ของอุปกรณ์การเติบโตของคริสตัลเป็นตัวกำหนดคุณภาพและผลผลิตของแท่งซิลิคอนคาร์ไบด์โดยตรง ตามคุณลักษณะของเทคโนโลยีการขนส่งไอทางกายภาพ (PVT) Veteksemi ได้พัฒนาเตาให้ความร้อนแบบต้านทานสำหรับการเจริญเติบโตของผลึกซิลิคอนคาร์ไบด์ ซึ่งช่วยให้การเติบโตอย่างมั่นคงของผลึกซิลิคอนคาร์ไบด์ขนาด 6 นิ้ว 8 นิ้ว และ 12 นิ้ว พร้อมความเข้ากันได้เต็มรูปแบบกับระบบวัสดุนำไฟฟ้า กึ่งฉนวน และระบบวัสดุประเภท N ด้วยการควบคุมอุณหภูมิ ความดัน และพลังงานที่แม่นยำ จึงสามารถลดข้อบกพร่องของผลึก เช่น EPD (Etch Pit Density) และ BPD (Basal Plane Dislocation) ได้อย่างมีประสิทธิภาพ ขณะเดียวกันก็ใช้พลังงานต่ำและการออกแบบที่กะทัดรัดเพื่อให้เป็นไปตามมาตรฐานระดับสูงของการผลิตขนาดใหญ่ทางอุตสาหกรรม

สารละลายขัดเงา CMP (Chemical Mechanical Polishing Slurry) เป็นวัสดุประสิทธิภาพสูงที่ใช้ในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์และการแปรรูปวัสดุที่มีความแม่นยำ หน้าที่หลักคือการทำให้พื้นผิววัสดุมีความเรียบเรียบและขัดเงาได้ดีภายใต้ผลเสริมฤทธิ์กันของการกัดกร่อนของสารเคมีและการเจียรเชิงกล เพื่อตอบสนองความต้องการด้านความเรียบและคุณภาพพื้นผิวในระดับนาโน รอคอยที่จะให้คำปรึกษาเพิ่มเติมของคุณ

ในฐานะผู้ผลิตและซัพพลายเออร์ SIC ของจีนชั้นนำ Vetek Semiconductor CVD SIC Dummy Wafer เป็นเครื่องมือพิเศษในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ซึ่งส่วนใหญ่ใช้เพื่อวัตถุประสงค์ในการทดสอบเวเฟอร์ซิลิคอนและกระบวนการทดสอบเวเฟอร์ ยินดีต้อนรับคำถามเพิ่มเติมของคุณ