สินค้า
สินค้า

การเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์

เซมิคอนดักเตอร์ VeTek เป็นผู้ผลิตชั้นนำด้านวัสดุเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ผลิตภัณฑ์หลักของเราประกอบด้วยชิ้นส่วนเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ CVD ชิ้นส่วนเคลือบ TaC เผาผนึกสำหรับการเจริญเติบโตของผลึก SiC หรือกระบวนการ epitaxy สารกึ่งตัวนำ ผ่าน ISO9001 VeTek Semiconductor มีการควบคุมคุณภาพที่ดี VeTek Semiconductor มุ่งมั่นที่จะเป็นผู้ริเริ่มในอุตสาหกรรมการเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ ผ่านการวิจัยและพัฒนาเทคโนโลยีที่ทำซ้ำอย่างต่อเนื่อง


สินค้าหลักได้แก่แหวนไกด์เคลือบ TaC, วงแหวนนำสามกลีบเคลือบ CVD TaC, แทนทาลัมคาร์ไบด์ TaC เคลือบฮาล์ฟมูน, CVD TaC เคลือบตัวรับ epitaxis ของดาวเคราะห์ SiC, แหวนเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์, กราไฟท์มีรูพรุนเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์, ตัวรับการหมุนของการเคลือบ TaC, แหวนแทนทาลัมคาร์ไบด์, แผ่นหมุนเคลือบ TaC, ตัวรับเวเฟอร์เคลือบ TaC, แหวนตัวเบี่ยงเคลือบ TaC, ฝาครอบเคลือบ CVD TaC, หัวจับเคลือบ TaCฯลฯ ความบริสุทธิ์ต่ำกว่า 5ppm สามารถตอบสนองความต้องการของลูกค้าได้


กราไฟท์ที่เคลือบ TaC ถูกสร้างขึ้นโดยการเคลือบพื้นผิวของซับสเตรตของกราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงด้วยชั้นละเอียดของแทนทาลัมคาร์ไบด์โดยกระบวนการตกตะกอนด้วยไอสารเคมี (CVD) ที่เป็นกรรมสิทธิ์ ข้อดีดังแสดงไว้ในภาพด้านล่าง:


Excellent properties of TaC coating graphite


การเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ (TaC) ได้รับความสนใจเนื่องจากมีจุดหลอมเหลวสูงถึง 3880°C มีความแข็งแรงเชิงกล ความแข็ง และความต้านทานต่อการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างฉับพลัน ทำให้เป็นทางเลือกที่น่าสนใจสำหรับกระบวนการ epitaxy สารกึ่งตัวนำแบบผสมที่มีความต้องการอุณหภูมิที่สูงขึ้น เช่น ระบบ Aixtron MOCVD และกระบวนการ epitaxy LPE SiC นอกจากนี้ยังมีการใช้งานอย่างกว้างขวางในกระบวนการเติบโตผลึก SiC วิธี PVT


คุณสมบัติที่สำคัญ:

 ความเสถียรของอุณหภูมิ

 มีความบริสุทธิ์สูงเป็นพิเศษ

 ความต้านทานต่อ H2, NH3, SiH4, Si

 ความต้านทานต่อสต็อกความร้อน

 การยึดเกาะที่แข็งแกร่งกับกราไฟท์

 ความคุ้มครองการเคลือบตามแบบฉบับ

 ขนาดเส้นผ่านศูนย์กลางสูงสุด 750 มม.(ผู้ผลิตรายเดียวในจีนถึงขนาดนี้)


การใช้งาน:

 ผู้ให้บริการเวเฟอร์

 ● ตัวรับความร้อนแบบเหนี่ยวนำ

 ● องค์ประกอบความร้อนแบบต้านทาน

 จานดาวเทียม

 หัวฝักบัว

 แหวนนำทาง

 ตัวรับ LED Epi

 หัวฉีด

 แหวนกำบัง

 ● แผ่นกันความร้อน


การเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ (TaC) บนหน้าตัดด้วยกล้องจุลทรรศน์:


the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


พารามิเตอร์ของการเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ VeTek Semiconductor:

คุณสมบัติทางกายภาพของการเคลือบ TaC
ความหนาแน่น 14.3 (ก./ซม.)
การแผ่รังสีจำเพาะ 0.3
ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวเนื่องจากความร้อน 6.3 10-6/ก
ความแข็ง (ฮ่องกง) 2000 ฮ่องกง
ความต้านทาน 1×10-5โอห์ม*ซม
เสถียรภาพทางความร้อน <2500 ℃
การเปลี่ยนแปลงขนาดกราไฟท์ -10~-20um
ความหนาของการเคลือบ ≥20umค่าทั่วไป (35um ± 10um)


ข้อมูล EDX ของการเคลือบ TaC

EDX data of TaC coating


ข้อมูลโครงสร้างผลึกเคลือบ TaC:

องค์ประกอบ เปอร์เซ็นต์อะตอม
พ.ต. 1 พ.ต. 2 พ.ต. 3 เฉลี่ย
ซีเค 52.10 57.41 52.37 53.96
พวกเขา 47.90 42.59 47.63 46.04


View as  
 
กราไฟท์มีรูพรุนเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์

กราไฟท์มีรูพรุนเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์

Tantalum Carbide Coated Porous Graphite เป็นผลิตภัณฑ์ที่ขาดไม่ได้ในกระบวนการประมวลผลเซมิคอนดักเตอร์โดยเฉพาะอย่างยิ่งในกระบวนการเจริญเติบโตของคริสตัล SIC หลังจากการลงทุนด้านการวิจัยและพัฒนาอย่างต่อเนื่องและการอัพเกรดเทคโนโลยีคุณภาพผลิตภัณฑ์กราไฟท์ที่มีรูพรุน Vetek Semiconductor ของ Vetek ได้รับการยกย่องอย่างสูงจากลูกค้าในยุโรปและอเมริกา ยินดีต้อนรับสู่การให้คำปรึกษาเพิ่มเติมของคุณ
CVD TaC เคลือบตัวรับ epitaxis ของดาวเคราะห์ SiC

CVD TaC เคลือบตัวรับ epitaxis ของดาวเคราะห์ SiC

CVD TAC Coating Planetary SIC epitaxial vensceptor เป็นหนึ่งในองค์ประกอบหลักของเครื่องปฏิกรณ์ดาวเคราะห์ MOCVD ผ่าน CVD TAC การเคลือบดาวเคราะห์ sic epitaxial vensceptor, วงโคจรดิสก์ขนาดใหญ่และการหมุนของดิสก์ขนาดเล็กและแบบจำลองการไหลในแนวนอนจะขยายไปยังเครื่องชิปหลายชิป -เครื่องชิปและข้อได้เปรียบด้านต้นทุนการผลิตของเครื่องชิปหลายชิป Vetek Semiconductor สามารถให้บริการลูกค้าด้วยการเคลือบ CVD TAC ที่ปรับแต่งได้สูงดาวเคราะห์ SIC epitaxial venceptor หากคุณต้องการสร้างเตาเผา MOCVD ของดาวเคราะห์เช่น Aixtron มาหาเรา!
แหวนเคลือบ TAC

แหวนเคลือบ TAC

ในฐานะผู้ผลิตชั้นนำและซัพพลายเออร์ของผลิตภัณฑ์แหวนเคลือบ TAC ในประเทศจีน Vetek Semiconductor ได้มุ่งเน้นไปที่การวิจัยและพัฒนาและการผลิตผลิตภัณฑ์เคลือบ TAC ต่างๆ ในฐานะลูกค้าหลักของผลิตภัณฑ์เคลือบ TAC ผู้ผลิตในยุโรปและอเมริกาได้ให้การยกย่องอย่างสูงแก่ผลิตภัณฑ์เคลือบผิวของเรา ยินดีต้อนรับสู่การให้คำปรึกษาเพิ่มเติมของคุณ
Gan Epitaxy Undertaker

Gan Epitaxy Undertaker

Vetek Semiconductor เป็น บริษัท จีนที่เป็นผู้ผลิตระดับโลกและซัพพลายเออร์ของ GaN Epitaxy Venceptor เราทำงานในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เช่นการเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์และไวรัส Epitaxy Gan เป็นเวลานาน เราสามารถให้ผลิตภัณฑ์ที่ยอดเยี่ยมและราคาที่ดี Vetek Semiconductor หวังว่าจะได้เป็นหุ้นส่วนระยะยาวของคุณ
TAC Coated Wafer Weperceptor

TAC Coated Wafer Weperceptor

Vetek Semiconductor TAC Coated Wafer Veperceptor เป็นถาดกราไฟท์ที่เคลือบด้วย Tantalum Carbide สำหรับการเติบโตของ silicon carbide epitaxial เพื่อปรับปรุงคุณภาพและประสิทธิภาพของเวเฟอร์ Vetek ได้รับการคัดเลือกเนื่องจากเทคโนโลยีการเคลือบขั้นสูงและโซลูชั่นที่ทนทานเพื่อให้แน่ใจว่าผลลัพธ์ของ Epitaxy SIC ที่ยอดเยี่ยม
แหวนคู่มือการเคลือบ TAC

แหวนคู่มือการเคลือบ TAC

ในฐานะผู้ผลิตชั้นนำของคู่มือการเคลือบ TAC Rings ในประเทศจีนแหวนคู่มือเคลือบ Vetek Semiconductor TAC เป็นส่วนประกอบที่สำคัญในอุปกรณ์ MOCVD ทำให้มั่นใจได้ว่าการส่งก๊าซที่แม่นยำและมั่นคงในระหว่างการเติบโตของ epitaxial และเป็นวัสดุที่ขาดไม่ได้ในการเจริญเติบโตของ epitaxial ยินดีต้อนรับที่จะปรึกษาเรา
ในฐานะผู้ผลิตและซัพพลายเออร์มืออาชีพ การเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ ในประเทศจีนเรามีโรงงานของเราเอง ไม่ว่าคุณต้องการบริการที่กำหนดเองเพื่อตอบสนองความต้องการเฉพาะของภูมิภาคของคุณหรือต้องการซื้อขั้นสูงและทนทาน การเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ ที่ผลิตในประเทศจีนคุณสามารถฝากข้อความถึงเราได้
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept