ภายในเวิร์คช็อป VETEK CNC Precision Machining: การสร้างรากฐานของส่วนประกอบเซมิคอนดักเตอร์ที่มีความบริสุทธิ์สูง

ก้าวเข้าสู่เวิร์กช็อปการตัดเฉือน CNC ที่มีความแม่นยำของ VeTek Semiconductor และคุณจะได้เห็นพลังอันเงียบสงบของการผลิตสมัยใหม่ อุปกรณ์อัตโนมัติทำงานในจังหวะที่สมบูรณ์แบบ สปินเดิลความเร็วสูงซึ่งควบคุมโดยโปรแกรม CNC ที่แม่นยำ ทำงานประสานกันในขณะที่เครื่องมือตัดทีละชั้นเปลี่ยนช่องว่างดิบที่เย็นจัดให้เป็นส่วนประกอบที่มีความแม่นยำสูง ความอดทนทุกประการได้รับการควบคุมอย่างเข้มงวด ทุกรายละเอียดได้รับการตรวจสอบอย่างละเอียด ด้วยพลังแห่งการควบคุมเชิงตัวเลข เราจึงสร้างชิ้นงานที่ผ่านการรับรองแต่ละชิ้นเพื่อรองรับกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์ที่มีความต้องการมากที่สุดในภายหลัง

1. ความแม่นยำที่ขับเคลื่อนเซมิคอนดักเตอร์แห่งอนาคต

ที่ VeTek Semiconductor การตัดเฉือน CNC เป็นมากกว่าขั้นตอนการผลิต ซึ่งเป็นรากฐานที่สำคัญสำหรับกลุ่มผลิตภัณฑ์หลักของเรา ตั้งแต่ซับสเตรตกราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงไปจนถึงรูปทรงที่ซับซ้อน ความสามารถในการตัดเฉือนของเราสนับสนุนการผลิต:

•เคลือบ CVD ซิลิคอนคาร์ไบด์ (SiC)ตัวรับกราไฟท์และแหวนอุ่นก่อน

•เคลือบ CVD แทนทาลัมคาร์ไบด์ (TaC)วงแหวนเบี่ยง ส่วนฮาล์ฟมูน และตัวรับดาวเคราะห์

• SiC ที่เป็นของแข็งส่วนประกอบและวงแหวนโฟกัส

• ชิ้นส่วนสนามความร้อนกราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงสำหรับ SiC epitaxy, MOCVD และการเติบโตของคริสตัล

• ส่วนประกอบกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์แบบกำหนดเองที่เข้ากันได้กับแพลตฟอร์มหลัก (Aixtron, Veeco, LPE, ASM, วัสดุประยุกต์)

ส่วนประกอบเหล่านี้ต้องการความคลาดเคลื่อนของมิติที่แคบเป็นพิเศษและความสมบูรณ์ของพื้นผิวที่ยอดเยี่ยม เวิร์กช็อป CNC ของเราจะรับประกันว่ากราไฟท์เปล่าทุกชิ้นได้รับการตัดเฉือนตามข้อกำหนดเฉพาะก่อนที่จะได้รับการเคลือบ CVD SiC หรือ TaC ที่มีความบริสุทธิ์สูง ซึ่งเป็นการเคลือบที่มีระดับสิ่งเจือปนต่ำกว่า 5 ppm อย่างสม่ำเสมอ

2. ข้อได้เปรียบในการแข่งขันของเรา

สิ่งที่ทำให้ VeTek Semiconductor แตกต่างคือห่วงโซ่การผลิตแบบครบวงจรของเราและความเชี่ยวชาญด้านเทคนิคเชิงลึก:

ความสามารถแบบครบวงจร: เครื่องจักรกลซีเอ็นซีที่มีความแม่นยำ → การทำให้บริสุทธิ์ที่อุณหภูมิสูง → การเคลือบ CVD SiC/TaC → การทำความสะอาด → การทดสอบที่เข้มงวด (GDMS, SIMS, SEM)

อุปกรณ์และความจุขั้นสูง:สายการผลิตที่มีความแม่นยำสูง 12+ แห่งและศูนย์ R&D สองแห่ง ก่อตั้งโดยอดีตผู้เชี่ยวชาญของ Chinese Academy of Sciences

ความบริสุทธิ์และความน่าเชื่อถือสูงเป็นพิเศษ:สารเคลือบและวัสดุที่ได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมสำหรับอุณหภูมิที่สูงมาก สภาพแวดล้อมที่มีการกัดกร่อน และการปนเปื้อนของอนุภาคเป็นศูนย์ในกระบวนการเอพิแทกซีและ MOCVD

การปรับแต่งแบบเต็ม:เราตัดเฉือนและเคลือบส่วนประกอบตามแบบที่แน่นอนของคุณ เพื่อให้มั่นใจว่าเหมาะสมที่สุดสำหรับแพลตฟอร์มเครื่องปฏิกรณ์ของคุณ

ระบบคุณภาพที่ได้รับการพิสูจน์แล้ว: กระบวนการที่ได้รับการรับรองมาตรฐาน ISO 9001 พร้อมการควบคุมมิติและความบริสุทธิ์ที่เข้มงวดในทุกขั้นตอน

3. จากความว่างเปล่าไปจนถึงองค์ประกอบที่มีความสำคัญต่อภารกิจ

ซัคเซพเตอร์เคลือบ SiC ประสิทธิภาพสูงทุกตัวหรือวงแหวนเคลือบ TaC เริ่มต้นที่นี่—ในเวิร์กช็อปการตัดเฉือน CNC ที่มีความแม่นยำของเรา กราไฟท์เย็นขึ้นรูปอย่างระมัดระวังภายใต้การแนะนำของการควบคุมเชิงตัวเลขขั้นสูง จากนั้นจึงเปลี่ยนผ่านการทำให้บริสุทธิ์และการเคลือบเป็นส่วนประกอบที่จะทนทานต่อรอบกระบวนการนับพันในโรงงานเซมิคอนดักเตอร์ที่ทันสมัยที่สุดในโลก

ที่ VeTek Semiconductor เราเชื่อว่าความแม่นยำที่แท้จริงเริ่มต้นก่อนที่ห้องเคลือบจะนาน มันเริ่มต้นด้วยการตัดครั้งแรก

สำรวจผลิตภัณฑ์ทั้งหมดของเราการเคลือบ CVD SiC, การเคลือบ CVD TaC, SiC ที่เป็นของแข็งและสารละลายกราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงที่เวเทค.

ติดต่อเราวันนี้เพื่อหารือเกี่ยวกับโซลูชันการตัดเฉือนและการเคลือบแบบกำหนดเองสำหรับการใช้งานด้านเอพิแทกซี, MOCVD หรือการเติบโตของคริสตัล