ถ้วยใส่ตัวอย่างกราไฟท์สามชิ้น

คุณสมบัติที่สำคัญ
· กราไฟท์ไอโซสแตติกความบริสุทธิ์สูงที่มีปริมาณเถ้า ≤5 ppm หลังการทำให้บริสุทธิ์

· การออกแบบโมดูลาร์สามชิ้นช่วยลดความเครียดจากความร้อนและยืดอายุการใช้งาน

· การนำความร้อนดีเยี่ยมเพื่อการกระจายอุณหภูมิที่มั่นคง

· ทนต่อแรงกระแทกจากความร้อนได้โดดเด่นภายใต้การให้ความร้อนและความเย็นซ้ำๆ

· รองรับการใช้งานกับการเคลือบ CVD SiC, TaC และ PyC ซึ่งเป็นอุปกรณ์เสริม

· การขึ้นรูปด้วยเครื่องจักร CNC ที่มีความแม่นยำช่วยให้มั่นใจได้ถึงความคลาดเคลื่อนของขนาดที่แคบ

· ขนาดและโครงสร้างที่กำหนดเองตามแบบของลูกค้า

ข้อมูลจำเพาะ

การใช้งาน
· การเติบโตของคริสตัล PVT SiC

· ระบบสนามความร้อนของเซมิคอนดักเตอร์

· เตาหลอมคริสตัล

· เตาสุญญากาศ อุณหภูมิสูง

· การเติบโตของคริสตัลเซมิคอนดักเตอร์แบบผสม

· อุปกรณ์ R&D เซมิคอนดักเตอร์

ทำไมต้องร่วมงานกับ VETEK?

· การผลิตภายในบริษัทเสร็จสมบูรณ์ตั้งแต่การทำให้บริสุทธิ์ด้วยกราไฟท์ไปจนถึงการเคลือบ

· เครื่องจักร CNC ขั้นสูงและการควบคุมคุณภาพเกรดเซมิคอนดักเตอร์

· เทคโนโลยีการเคลือบ SiC, TaC และ PyC ที่เป็นอุปกรณ์เสริม

· การผลิตแบบกำหนดเองตามแบบหรือรุ่นอุปกรณ์

· อุปทานทั่วโลกที่มั่นคงและการสนับสนุนทางเทคนิคที่เชื่อถือได้