หัวฝักบัวแก๊ส Solid SiC

หัวฝักบัวแก๊ส SIC

VeTek Semiconductor เป็นบริษัทบูรณาการที่อุทิศตนเพื่อการวิจัย การผลิต และการขาย VeTek Semiconductor ทำงานเกี่ยวกับเซมิคอนดักเตอร์ epitaxy การกัด และผลิตภัณฑ์ที่เกี่ยวข้องกับกระบวนการอื่นๆ เป็นเวลาหลายปี โดยเฉพาะอย่างยิ่งการเคลือบ CVD SiC, การเคลือบ CVD TaC และ CVD Solid SiC เป็นผลิตภัณฑ์หลักของเรา

หัวฝักบัวแก๊ส Solid SiC ของ VeTek Semiconductor มักใช้เพื่อกระจายก๊าซตั้งต้นบนพื้นผิวของสารตั้งต้นอย่างสม่ำเสมอในระหว่างกระบวนการ CVD ของเซมิคอนดักเตอร์ การใช้วัสดุ CVD-SiC สำหรับหัวฝักบัวมีข้อดีหลายประการ ค่าการนำความร้อนสูงช่วยกระจายความร้อนที่เกิดขึ้นในกระบวนการ CVD ทำให้มั่นใจได้ถึงการกระจายอุณหภูมิที่สม่ำเสมอบนพื้นผิว นอกจากนี้ ความคงตัวทางเคมีของหัวฝักบัว CVD sic ยังช่วยให้สามารถทนต่อก๊าซที่มีฤทธิ์กัดกร่อนและสภาพแวดล้อมที่รุนแรงซึ่งมักพบในกระบวนการ CVD 

การออกแบบหัวฝักบัว CVD SIC สามารถปรับให้เหมาะกับระบบ CVD เฉพาะและข้อกำหนดของกระบวนการ อย่างไรก็ตามโดยทั่วไปแล้วพวกเขาจะประกอบด้วยแผ่นแผ่นหรือส่วนประกอบรูปดิสก์ที่มีชุดของหลุมเจาะที่แม่นยำหรือสล็อต รูปแบบรูและเรขาคณิตได้รับการออกแบบอย่างระมัดระวังเพื่อให้แน่ใจว่าการกระจายก๊าซที่สม่ำเสมอและความเร็วการไหลเหนือพื้นผิวพื้นผิว

คุณสมบัติทางกายภาพของ SIC