ขวดโหลควอตซ์เกรดเซมิคอนดักเตอร์

ขวดระฆังควอตซ์เกรดเซมิคอนดักเตอร์ทำจากวัสดุควอตซ์ที่มีความบริสุทธิ์สูง มีเสถียรภาพทางความร้อนที่ดีเยี่ยมและทนต่อการกัดกร่อนได้ดี และมีการใช้ในหลายสาขา ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์: ขวดระฆังควอตซ์เกรดเซมิคอนดักเตอร์ให้สภาพแวดล้อมที่มีการควบคุมสำหรับการสะสมของฟิล์มบางบนเวเฟอร์ในระหว่างการสะสมไอสารเคมี (CVD) ขวดระฆังควอตซ์เกรดเซมิคอนดักเตอร์ยังใช้ในกระบวนการที่ต้องใช้เทคโนโลยีสุญญากาศ เช่น การผลิตการเคลือบแสง การเคลือบโลหะ และวัสดุฟิล์มบางประเภทอื่น ๆ ขวดระฆังควอตซ์เกรดเซมิคอนดักเตอร์ยังจำเป็นในการทดลองทางกายภาพและวัสดุศาสตร์จำนวนมากที่ต้องใช้สภาพแวดล้อมที่ปิดผนึกด้วยสุญญากาศที่มีความบริสุทธิ์สูง

สถานการณ์การใช้งานอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์:

โพลีซิลิคอนเป็นวัสดุซิลิกอนที่ประกอบด้วยเม็ดเล็กๆ จำนวนมาก ซึ่งใช้กันอย่างแพร่หลายในวงจรรวม เซลล์แสงอาทิตย์ และสาขาอื่นๆ การสะสมไอสารเคมี (CVD) เป็นหนึ่งในวิธีการหลักในการเตรียมซิลิคอนโพลีคริสตัลไลน์ หลักการพื้นฐานคือก๊าซแหล่งซิลิคอน เช่น SiH4 จะถูกสลายตัวที่อุณหภูมิสูงและสะสมอยู่บนพื้นผิวเพื่อสร้างซิลิคอนโพลีคริสตัลไลน์：

SIHCL3 + H2 ⇒ SI + 3HCl

ภายใต้สภาวะอุณหภูมิสูงและสุญญากาศก๊าซซิลิคอนแหล่งกำเนิดถูกป้อนเข้าสู่การสะสมไอสารเคมี ในที่สุด Polycrystalline Silicon ก็ได้รับขวดระฆังควอตซ์เกรดเซมิคอนดักเตอร์เกรดเซมิคอนดักเตอร์เป็นส่วนสำคัญของเครื่องปฏิกรณ์ CVD ซิลิคอน Polycrystalline

เครื่องปฏิกรณ์โพลีคริสตัลไลน์ซิลิคอน CVD

ภายใต้ปฏิกิริยาที่อุณหภูมิสูงของ CVD ขวดระฆังควอตซ์เกรดเซมิคอนดักเตอร์สามารถให้สภาพแวดล้อมทางความร้อนที่สม่ำเสมอ ความต้านทานต่ออุณหภูมิสูงของวัสดุควอตซ์ความบริสุทธิ์สูง (สามารถทนต่ออุณหภูมิสูงถึงประมาณ 1100°C) ช่วยให้สามารถทำงานได้อย่างเสถียรในปฏิกิริยา CVD และรับประกันการกระจายอุณหภูมิที่สม่ำเสมอในพื้นที่ปฏิกิริยา ในกระบวนการ CVD มีส่วนประกอบของก๊าซพิษมากมาย เช่น PH3 เป็นต้น ขวดระฆังควอตซ์เกรดเซมิคอนดักเตอร์สามารถแยกก๊าซเคมีในห้องปฏิกิริยาออกจากสภาพแวดล้อมภายนอกได้อย่างมีประสิทธิภาพ เพื่อป้องกันการรั่วไหลของก๊าซที่เป็นอันตราย ความต้านทานการกัดกร่อนของวัสดุควอตซ์ความบริสุทธิ์สูงยังช่วยให้วัสดุอื่นๆ ทำงานได้อย่างเสถียรเป็นเวลานานในระหว่างกระบวนการ CVD และไม่สึกกร่อนหรือเสียหายได้ง่าย

ขวดเบลล์ควอตซ์ใช้ร่วมกับท่อเก็บรักษาความร้อนควอตซ์และเรือควอตซ์แนวตั้งและส่วนใหญ่จะใช้ในกระบวนการ epitaxial ของการผลิตชิปวงจรเซมิคอนดักเตอร์ โดยทั่วไปแล้วเตาเผา epitaxial ใช้โครงสร้างแนวตั้งโดยมีขวดระฆังควอตซ์ที่ด้านนอกของเรือควอตซ์แนวตั้งและท่อเก็บรักษาความร้อนควอตซ์เพื่อรองรับ

แอปพลิเคชั่นทั่วไปของโถเบลล์เกรดควอตซ์เกรดเซมิคอนดักเตอร์ในสภาพแวดล้อมที่อุณหภูมิสูง: เพื่อให้ความร้อนเป็นชุดของชิ้นส่วนทันตกรรมจัดฟันถึง 704 ℃ภายใน 1 วินาทีในบรรยากาศเฉื่อยสำหรับการประสาน：：：

VeTek Semiconductor มีทีมงานด้านเทคนิคที่เชี่ยวชาญ ไม่ว่าคุณจะต้องการขวดโหลควอตซ์ความบริสุทธิ์สูงที่มีรูปทรงหรือวัสดุใด เราก็สามารถปรับแต่งให้เหมาะกับคุณได้

ร้านค้าผลิตภัณฑ์ VeTek Semiconductor: