ALD ฐานผสมควอตซ์

VeTek Semiconductor ALD Fused Quartz Pedestal มีบทบาทสำคัญในกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์เป็นโครงสร้างสนับสนุนสำหรับเรือควอทซ์ซึ่งใช้ในการถือเวเฟอร์- แท่นควอตซ์ที่หลอมรวมช่วยให้เกิดการสะสมฟิล์มที่สม่ำเสมอโดยการรักษาอุณหภูมิที่มั่นคงซึ่งส่งผลโดยตรงต่อประสิทธิภาพและความน่าเชื่อถือของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ นอกจากนี้แท่นควอตซ์ทำให้มั่นใจได้ว่าการกระจายความร้อนและแสงในห้องกระบวนการอย่างสม่ำเสมอซึ่งจะเป็นการปรับปรุงคุณภาพโดยรวมของกระบวนการสะสม

ข้อดีของวัสดุแท่นควอตซ์ที่หลอมรวม

ทนต่ออุณหภูมิสูง: จุดอ่อนตัวของฐานควอตซ์หลอมละลายจะสูงถึงประมาณ 1,730°C และสามารถทนต่อการทำงานที่อุณหภูมิสูงที่ 1100°C ถึง 1250°C เป็นเวลานาน และสามารถสัมผัสกับสภาพแวดล้อมที่มีอุณหภูมิสูงถึง 1,450°C ในช่วงเวลาสั้น ๆ

ความต้านทานการกัดกร่อนที่ยอดเยี่ยม: การหลอมรวมควอตซ์เป็นสารเคมีที่เฉื่อยอย่างมากกับกรดเกือบทั้งหมดยกเว้นกรดไฮโดรฟลูออริก ความต้านทานกรดของมันสูงกว่าเซรามิก 30 เท่าและสูงกว่าสแตนเลส 150 เท่า Fused Quartz นั้นไม่มีใครเทียบได้ที่อุณหภูมิสูงทำให้เป็นวัสดุที่เหมาะสำหรับกระบวนการทางเคมีที่ซับซ้อน

เสถียรภาพทางความร้อน: คุณลักษณะสำคัญของวัสดุ Fused Quartz Pedestal คือค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวจากความร้อนที่ต่ำมาก ซึ่งหมายความว่าสามารถรับมือกับความผันผวนของอุณหภูมิที่รุนแรงได้อย่างง่ายดายโดยไม่แตกร้าว ตัวอย่างเช่น ซิลิกาควอตซ์ที่หลอมละลายสามารถให้ความร้อนได้อย่างรวดเร็วถึง 1100°C และแช่ในน้ำเย็นโดยตรงโดยไม่เกิดความเสียหาย ซึ่งเป็นคุณลักษณะที่สำคัญในสภาวะการผลิตที่มีความเครียดสูง

กระบวนการผลิตที่เข้มงวด: กระบวนการผลิตของแท่นซิลิก้าหลอมรวมตามมาตรฐานคุณภาพสูงอย่างเคร่งครัด กระบวนการผลิตใช้กระบวนการสร้างและการเชื่อมที่ร้อนแรงซึ่งมักจะเสร็จสมบูรณ์ในสภาพแวดล้อมที่มีห้องทำความสะอาดระดับ 10,000 ชั้น หลังจากนั้นแท่นแก้วควอตซ์ที่หลอมรวมได้รับการทำความสะอาดอย่างทั่วถึงด้วยน้ำพิเศษ (18 MΩ) เพื่อให้แน่ใจว่าผลิตภัณฑ์มีความบริสุทธิ์และประสิทธิภาพที่ดีที่สุด ผลิตภัณฑ์สำเร็จรูปแต่ละชิ้นได้รับการตรวจสอบอย่างเข้มงวดทำความสะอาดและบรรจุในห้องทำความสะอาดระดับ 1,000 หรือสูงกว่าเพื่อให้เป็นไปตามมาตรฐานที่สูงของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

วัสดุซิลิกาควอตซ์ทึบแสงสูง

Veteksemi Ald Fused Quartz Pedestal ใช้วัสดุควอตซ์ทึบแสงที่มีความบริสุทธิ์สูงเพื่อแยกความร้อนและแสงอย่างมีประสิทธิภาพ การป้องกันความร้อนที่ยอดเยี่ยมและคุณสมบัติการป้องกันแสงช่วยให้สามารถรักษาการกระจายอุณหภูมิที่สม่ำเสมอในห้องกระบวนการมั่นใจได้สม่ำเสมอและสม่ำเสมอการสะสมของภาพยนตร์บนพื้นผิวเวเฟอร์

ฟิลด์แอปพลิเคชัน

แท่นควอทซ์ผสมถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายในหลายสาขาของอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์เนื่องจากประสิทธิภาพที่ยอดเยี่ยม ในกระบวนการสะสมชั้นอะตอม (ALD)รองรับการควบคุมการเติบโตของภาพยนตร์อย่างแม่นยำและสร้างความมั่นใจในความก้าวหน้าของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ ในกระบวนการสะสมไอสารเคมีความดันต่ำ (LPCVD)ความเสถียรทางความร้อนและความสามารถในการป้องกันแสงของฐานควอตซ์ที่มีความบริสุทธิ์สูงรับประกันการสะสมตัวของฟิล์มบางที่สม่ำเสมอ ซึ่งจะช่วยปรับปรุงประสิทธิภาพและผลผลิตของอุปกรณ์

นอกจากนี้ ในกระบวนการกระจายเวเฟอร์ ความต้านทานต่ออุณหภูมิสูงและความต้านทานการกัดกร่อนของสารเคมีของ Fused Quartz Pedestal ช่วยให้มั่นใจในความน่าเชื่อถือและความสม่ำเสมอของกระบวนการเติมวัสดุเซมิคอนดักเตอร์ กระบวนการสำคัญเหล่านี้กำหนดประสิทธิภาพทางไฟฟ้าของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ และวัสดุ Fused Quartz คุณภาพสูงมีบทบาทสำคัญในการบรรลุผลลัพธ์ที่ดีที่สุดของกระบวนการเหล่านี้

Vetek Semiconductor Ald Fused Quartz Pedestal Shops: