สินค้า

Veteksemicon จัดเตรียมแผ่นแกะสลัก SIC ICP ที่มีประสิทธิภาพสูงซึ่งออกแบบมาสำหรับแอพพลิเคชั่นการแกะสลัก ICP ในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ คุณสมบัติของวัสดุที่เป็นเอกลักษณ์ช่วยให้สามารถทำงานได้ดีในอุณหภูมิสูงความดันสูงและสภาพแวดล้อมการกัดกร่อนทางเคมีทำให้มั่นใจได้ว่าประสิทธิภาพที่ยอดเยี่ยมและความมั่นคงในระยะยาวในกระบวนการแกะสลักต่างๆ

Vetek Semiconductor Graphite Heating Unit เป็นสารละลายให้ความร้อนในอุตสาหกรรมประสิทธิภาพสูงที่ทำจากวัสดุกราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงซึ่งสามารถให้ผลการทำความร้อนที่แม่นยำและมีประสิทธิภาพ หน่วยทำความร้อนกราไฟท์ใช้กันอย่างแพร่หลายในเซมิคอนดักเตอร์อิเล็กทรอนิกส์เซรามิกและสาขาอื่น ๆ ยินดีต้อนรับคำถามเพิ่มเติมของคุณ

ในฐานะหนึ่งในซัพพลายเออร์ผลิตภัณฑ์การเคลือบ TAC ชั้นนำในประเทศจีน Vetek Semiconductor สามารถให้บริการลูกค้าด้วยชิ้นส่วนที่ปรับแต่งได้ที่ปรับแต่ง TAC คุณภาพสูงให้กับลูกค้า แหวนเคลือบ TAC สำหรับการเจริญเติบโตของ PVT ของ SIC Single Crystal เป็นหนึ่งในผลิตภัณฑ์ที่โดดเด่นที่สุดของ Vetek Semiconductor มันมีบทบาทสำคัญในการเติบโตของ PVT ของกระบวนการคริสตัล SIC และสามารถช่วยให้ลูกค้าเติบโตผลึก SIC คุณภาพสูง รอคอยการสอบถามของคุณ

SIC Coated UV LED LED Deep ได้รับการออกแบบมาสำหรับกระบวนการ MOCVD เพื่อรองรับการเติบโตของชั้น Epitaxial Epitaxial LED ที่มีประสิทธิภาพและมีเสถียรภาพ Vetek Semiconductor เป็นผู้ผลิตชั้นนำและซัพพลายเออร์ของ SIC Coated UV LED LED Deep LED Venceptor ในประเทศจีน เรามีประสบการณ์มากมายและได้สร้างความสัมพันธ์แบบร่วมมือระยะยาวกับผู้ผลิต Epitaxial LED จำนวนมากเราเป็นผู้ผลิตผลิตภัณฑ์ที่มีความเสี่ยงในประเทศสำหรับ LED หลังจากหลายปีของการตรวจสอบช่วงอายุการใช้งานผลิตภัณฑ์ของเรานั้นเทียบเท่ากับผู้ผลิตระดับนานาชาติชั้นนำ รอคอยการสอบถามของคุณ

Vetek Semiconductor ของ Epitaxy venceptor ได้รับการออกแบบมาสำหรับการผลิต Epitaxial LED สีน้ำเงินและสีเขียว มันรวมการเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์และกราไฟท์ SGL และมีความแข็งสูงความหยาบต่ำความเสถียรทางความร้อนที่ดีและความเสถียรทางเคมีที่ยอดเยี่ยม LED epitaxy vensceptor เป็นหนึ่งในผลิตภัณฑ์ที่โดดเด่นที่สุดของ Vetek Semiconductor เราหวังว่าจะได้คำถามของคุณ

วัตถุดิบ CVD ความบริสุทธิ์สูงที่จัดทำโดย CVD เป็นแหล่งข้อมูลที่ดีที่สุดสำหรับการเจริญเติบโตของคริสตัลซิลิกอนคาร์ไบด์โดยการขนส่งไอทางกายภาพ ความหนาแน่นของวัตถุดิบ CVD ความบริสุทธิ์สูงที่จัดทำโดย Vetek Semiconductor สูงกว่าอนุภาคขนาดเล็กที่เกิดจากการเผาไหม้ที่เกิดขึ้นเองของ SI และก๊าซที่มี C และ C และไม่จำเป็นต้องใช้เตาเผาเผาโดยเฉพาะและมีอัตราการระเหยเกือบคงที่ มันสามารถเติบโตผลึกเดี่ยว SIC คุณภาพสูงมาก รอคอยการสอบถามของคุณ