สินค้า

ควอตซ์หลอมละลายด้วยไฟฟ้าทำจาก SiCl4 ที่มีความบริสุทธิ์สูงและละลายด้วยเปลวไฟไฮโดรเจนออกซิเจน ผลิตภัณฑ์ไม่มีฟอง VeTek Semiconductor มีความสามารถในการผลิตควอตซ์หลอมรวมด้วยไฟฟ้าที่ครบกำหนดและมีกำลังการผลิตที่แข็งแกร่ง และสามารถจัดหาผลิตภัณฑ์ควอตซ์หลอมรวมด้วยไฟฟ้าได้ตามความต้องการของลูกค้า VeTek Semiconductor รอคอยที่จะตอบคำถามของคุณ

VeTeK Semiconductor ผลิตเครื่องทำความร้อน MOCVD กราไฟท์เคลือบ SiC ซึ่งเป็นองค์ประกอบสำคัญของกระบวนการ MOCVD พื้นผิวเคลือบด้วยสารเคลือบ SiC ที่มีความบริสุทธิ์สูงโดยใช้สารตั้งต้นกราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูง เพื่อให้มีความเสถียรที่อุณหภูมิสูงและทนต่อการกัดกร่อนได้ดีเยี่ยม ด้วยบริการผลิตภัณฑ์คุณภาพสูงและปรับแต่งได้สูง เครื่องทำความร้อน MOCVD แบบเคลือบกราไฟท์เคลือบ SiC ของ VeTeK Semiconductor จึงเป็นตัวเลือกที่ดีเยี่ยมในการรับประกันความเสถียรของกระบวนการ MOCVD และคุณภาพการสะสมของฟิล์มบาง VeTeK Semiconductor มุ่งหวังที่จะเป็นพันธมิตรของคุณ

Tantalum Carbide Coated Porous Graphite เป็นผลิตภัณฑ์ที่ขาดไม่ได้ในกระบวนการประมวลผลเซมิคอนดักเตอร์โดยเฉพาะอย่างยิ่งในกระบวนการเจริญเติบโตของคริสตัล SIC หลังจากการลงทุนด้านการวิจัยและพัฒนาอย่างต่อเนื่องและการอัพเกรดเทคโนโลยีคุณภาพผลิตภัณฑ์กราไฟท์ที่มีรูพรุน Vetek Semiconductor ของ Vetek ได้รับการยกย่องอย่างสูงจากลูกค้าในยุโรปและอเมริกา ยินดีต้อนรับสู่การให้คำปรึกษาเพิ่มเติมของคุณ

แท่นซิลิคอน VeTek Semiconductor เป็นส่วนประกอบสำคัญในกระบวนการแพร่และออกซิเดชันของเซมิคอนดักเตอร์ เนื่องจากเป็นแพลตฟอร์มเฉพาะสำหรับการบรรทุกเรือซิลิคอนในเตาเผาที่มีอุณหภูมิสูง Silicon Pedestal มีข้อได้เปรียบที่เป็นเอกลักษณ์มากมาย รวมถึงความสม่ำเสมอของอุณหภูมิที่ดีขึ้น คุณภาพเวเฟอร์ที่ได้รับการปรับปรุงให้เหมาะสม และประสิทธิภาพที่เพิ่มขึ้นของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ หากต้องการข้อมูลผลิตภัณฑ์เพิ่มเติม โปรดติดต่อเรา

VeTek Semiconductor คือผู้ผลิตและจำหน่ายผลิตภัณฑ์เคลือบ SiC ชั้นนำในประเทศจีน ตัวรับ Epi เคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ของ VeTek Semiconductor มีคุณภาพระดับสูงสุดในอุตสาหกรรม เหมาะสำหรับเตาเร่งการเจริญเติบโตแบบ epitaxial หลายรูปแบบ และให้บริการผลิตภัณฑ์ที่ปรับแต่งได้สูง VeTek Semiconductor มุ่งหวังที่จะเป็นพันธมิตรระยะยาวของคุณในประเทศจีน

CVD TAC Coating Planetary SIC epitaxial vensceptor เป็นหนึ่งในองค์ประกอบหลักของเครื่องปฏิกรณ์ดาวเคราะห์ MOCVD ผ่าน CVD TAC การเคลือบดาวเคราะห์ sic epitaxial vensceptor, วงโคจรดิสก์ขนาดใหญ่และการหมุนของดิสก์ขนาดเล็กและแบบจำลองการไหลในแนวนอนจะขยายไปยังเครื่องชิปหลายชิป -เครื่องชิปและข้อได้เปรียบด้านต้นทุนการผลิตของเครื่องชิปหลายชิป Vetek Semiconductor สามารถให้บริการลูกค้าด้วยการเคลือบ CVD TAC ที่ปรับแต่งได้สูงดาวเคราะห์ SIC epitaxial venceptor หากคุณต้องการสร้างเตาเผา MOCVD ของดาวเคราะห์เช่น Aixtron มาหาเรา!