แผ่นกระจายก๊าซควอตซ์

แผ่นกระจายก๊าซควอตซ์หรือที่เรียกว่าหัวฝักบัวควอตซ์เป็นส่วนประกอบที่สำคัญในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ การใช้ประโยชน์จากความบริสุทธิ์ที่ยอดเยี่ยมความต้านทานอุณหภูมิสูงและความต้านทานการกัดกร่อนของควอตซ์แผ่นเหล่านี้ทำให้มั่นใจได้ว่าการไหลของก๊าซกระบวนการที่สม่ำเสมอและมีเสถียรภาพบนพื้นผิวเวเฟอร์ การจัดส่งที่แม่นยำนี้เป็นสิ่งจำเป็นสำหรับการรักษาคุณภาพและความสม่ำเสมอของภาพยนตร์ที่ฝากหรือคุณสมบัติการแกะสลัก

คุณสมบัติที่สำคัญของควอตซ์หลอมรวมที่มีความบริสุทธิ์สูง

●วัสดุ: 99.99%quartz หลอมรวมความบริสุทธิ์สูง

●ความต้านทานอุณหภูมิสูง: ทนต่ออุณหภูมิสูงกว่า 1,000 ℃

●ความต้านทานการกัดกร่อน: ความทนทานที่ยอดเยี่ยมต่อก๊าซกระบวนการและสภาพแวดล้อมในพลาสมา

●การไหลของก๊าซที่แม่นยำ: การกระจายหลุมขนาดเล็กที่สม่ำเสมอสำหรับการส่งก๊าซที่ดีที่สุดและความสม่ำเสมอของการสะสม

●การออกแบบที่ปรับแต่งได้: ขนาดรูปแบบรูและคุณสมบัติการติดตั้งสามารถปรับแต่งสำหรับรุ่นอุปกรณ์เฉพาะ

บทบาทหลักในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์

1. การสะสมไอทางกายภาพ (PVD) และการสะสมไอเคมี (CVD)

บทบาท: ในกระบวนการ PVD และ CVD แผ่นกระจายก๊าซจะชี้นำก๊าซปฏิกิริยาอย่างแม่นยำ (เช่นไซเลนแอมโมเนียออกซิเจน) หรือสารตั้งต้นลงบนเวเฟอร์เพื่อสร้างฟิล์มบางที่ต้องการ

การใช้งานเฉพาะ:

●การควบคุมความสม่ำเสมอ: หลุมขนาดเล็กที่ได้รับการออกแบบอย่างแม่นยำของแผ่นมั่นใจว่าการไหลและความเข้มข้นของก๊าซนั้นมีความสม่ำเสมอทั่วทั้งพื้นผิวเวเฟอร์ทั้งหมด สิ่งนี้มีความสำคัญสำหรับการฝากภาพยนตร์ที่มีความหนาและประสิทธิภาพที่สอดคล้องกัน

●การป้องกันการปนเปื้อน: ความบริสุทธิ์สูงของควอตซ์ป้องกันไม่ให้แผ่นทำปฏิกิริยากับก๊าซกระบวนการหรือปล่อยสิ่งสกปรก สิ่งนี้ยังคงรักษาความบริสุทธิ์ของภาพยนตร์และป้องกันข้อบกพร่องบนพื้นผิวเวเฟอร์

2. การสะสมไอสารเคมีที่เพิ่มขึ้นพลาสมา (PECVD)

บทบาท: ใน PECVD หัวฝักบัวควอตซ์ไม่เพียง แต่ให้ก๊าซปฏิกิริยา แต่ยังทำหน้าที่เป็นอิเล็กโทรดสำหรับการสร้างพลาสมา

การใช้งานเฉพาะ:

●การจุดระเบิดในพลาสมา: โดยทั่วไปแล้วหัวฝักบัวจะเชื่อมต่อกับแหล่งพลังงานวิทยุ (RF) เพื่อสร้างพลาสมา อนุภาคพลังงานสูงภายในพลาสมาส่งเสริมการสลายตัวของสารตั้งต้นก๊าซทำให้การสะสมของฟิล์มที่อุณหภูมิต่ำกว่า

●เสถียรภาพทางความร้อน: ควอตซ์แสดงความเสถียรทางความร้อนที่ยอดเยี่ยมทำให้สามารถทนต่อสภาพแวดล้อมในพลาสมาอุณหภูมิสูง สิ่งนี้จะช่วยรักษาอุณหภูมิที่สม่ำเสมอภายในห้องกระบวนการสร้างความมั่นใจในคุณภาพของฟิล์มและความสม่ำเสมอ

3. การแกะสลักแห้ง

บทบาท: ในการแกะสลักแบบแห้งแผ่นกระจายก๊าซจะแนะนำก๊าซกัดปฏิกิริยา (เช่นฟลูออโรคาร์บอนคลอรีน) เข้าไปในห้องกัด

การใช้งานเฉพาะ:

●ความสม่ำเสมอของ Etch: แผ่นรับรองการไหลและความเข้มข้นของก๊าซกัดซึ่งรับประกันความลึกและโปรไฟล์ที่สอดคล้องกันทั่วทั้งเวเฟอร์ นี่เป็นสิ่งสำคัญสำหรับการบรรลุรูปแบบที่แม่นยำที่จำเป็นสำหรับอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง

●ความต้านทานการกัดกร่อน: คุณสมบัติการกัดกร่อนที่แข็งแกร่งของก๊าซ etch จำเป็นต้องใช้วัสดุที่ทนทาน ความต้านทานการกัดกร่อนสูงของควอตซ์ขยายอายุการใช้งานของฝักบัวและลดความเสี่ยงของการหยุดชะงักของกระบวนการ

4. การทำความสะอาดเวเฟอร์

บทบาท: ในกระบวนการทำความสะอาดเวเฟอร์ที่เฉพาะเจาะจงแผ่นกระจายก๊าซควอตซ์ใช้เพื่อส่งก๊าซทำความสะอาด (เช่นโอโซนแอมโมเนีย) อย่างสม่ำเสมอไปยังพื้นผิวเวเฟอร์เพื่อกำจัดสิ่งตกค้างหรือสารปนเปื้อน

การใช้งานเฉพาะ:

●การทำความสะอาดที่สอดคล้องกัน: จานช่วยให้มั่นใจได้ว่าการทำความสะอาดก๊าซจะเข้าถึงเวเฟอร์ทุกส่วนทำให้กระบวนการทำความสะอาดอย่างละเอียดและสม่ำเสมอ

●ความเข้ากันได้ทางเคมี: ความเข้ากันได้ของควอตซ์กับสารเคมีทำความสะอาดที่หลากหลายช่วยป้องกันปฏิกิริยาและรักษาความบริสุทธิ์และประสิทธิผลของกระบวนการทำความสะอาด