เมนูเว็บ

ค้นหาผลิตภัณฑ์

ภาษา

สินค้า
สินค้า

การเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์

เซมิคอนดักเตอร์ VeTek เป็นผู้ผลิตชั้นนำด้านวัสดุเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์สำหรับอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ ผลิตภัณฑ์หลักของเราประกอบด้วยชิ้นส่วนเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ CVD ชิ้นส่วนเคลือบ TaC เผาผนึกสำหรับการเจริญเติบโตของผลึก SiC หรือกระบวนการ epitaxy สารกึ่งตัวนำ ผ่าน ISO9001 VeTek Semiconductor มีการควบคุมคุณภาพที่ดี VeTek Semiconductor มุ่งมั่นที่จะเป็นผู้ริเริ่มในอุตสาหกรรมการเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ ผ่านการวิจัยและพัฒนาเทคโนโลยีที่ทำซ้ำอย่างต่อเนื่อง


สินค้าหลักได้แก่แหวนไกด์เคลือบ TaC, วงแหวนนำสามกลีบเคลือบ CVD TaC, แทนทาลัมคาร์ไบด์ TaC เคลือบฮาล์ฟมูน, CVD TaC เคลือบตัวรับ epitaxis ของดาวเคราะห์ SiC, แหวนเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์, กราไฟท์มีรูพรุนเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์, ตัวรับการหมุนของการเคลือบ TaC, แหวนแทนทาลัมคาร์ไบด์, แผ่นหมุนเคลือบ TaC, ตัวรับเวเฟอร์เคลือบ TaC, แหวนตัวเบี่ยงเคลือบ TaC, ฝาครอบเคลือบ CVD TaC, หัวจับเคลือบ TaCฯลฯ ความบริสุทธิ์ต่ำกว่า 5ppm สามารถตอบสนองความต้องการของลูกค้าได้


กราไฟท์ที่เคลือบ TaC ถูกสร้างขึ้นโดยการเคลือบพื้นผิวของซับสเตรตของกราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงด้วยชั้นละเอียดของแทนทาลัมคาร์ไบด์โดยกระบวนการตกตะกอนด้วยไอสารเคมี (CVD) ที่เป็นกรรมสิทธิ์ ข้อดีดังแสดงไว้ในภาพด้านล่าง:


Excellent properties of TaC coating graphite


การเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ (TaC) ได้รับความสนใจเนื่องจากมีจุดหลอมเหลวสูงถึง 3880°C มีความแข็งแรงเชิงกล ความแข็ง และความต้านทานต่อการเปลี่ยนแปลงอุณหภูมิอย่างฉับพลัน ทำให้เป็นทางเลือกที่น่าสนใจสำหรับกระบวนการ epitaxy สารกึ่งตัวนำแบบผสมที่มีความต้องการอุณหภูมิที่สูงขึ้น เช่น ระบบ Aixtron MOCVD และกระบวนการ epitaxy LPE SiC นอกจากนี้ยังมีการใช้งานอย่างกว้างขวางในกระบวนการเติบโตผลึก SiC วิธี PVT


คุณสมบัติที่สำคัญ:

 ความเสถียรของอุณหภูมิ

 มีความบริสุทธิ์สูงเป็นพิเศษ

 ความต้านทานต่อ H2, NH3, SiH4, Si

 ความต้านทานต่อสต็อกความร้อน

 การยึดเกาะที่แข็งแกร่งกับกราไฟท์

 ความคุ้มครองการเคลือบตามแบบฉบับ

 ● ขนาดเส้นผ่านศูนย์กลางสูงสุด 750 มม.(ผู้ผลิตรายเดียวในจีนถึงขนาดนี้)


การใช้งาน:

 ผู้ให้บริการเวเฟอร์

 ● ตัวรับความร้อนแบบเหนี่ยวนำ

 ● องค์ประกอบความร้อนแบบต้านทาน

 จานดาวเทียม

 หัวฝักบัว

 แหวนนำทาง

 ตัวรับ LED Epi

 หัวฉีด

 แหวนกำบัง

 ● แผ่นกันความร้อน


การเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ (TaC) บนหน้าตัดด้วยกล้องจุลทรรศน์:


the microscopic cross-section of Tantalum carbide (TaC) coating


พารามิเตอร์ของการเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ VeTek Semiconductor:

คุณสมบัติทางกายภาพของการเคลือบ TaC
ความหนาแน่น 14.3 (ก./ซม.)
การแผ่รังสีจำเพาะ 0.3
ค่าสัมประสิทธิ์การขยายตัวเนื่องจากความร้อน 6.3 10-6/ก
ความแข็ง (ฮ่องกง) 2000 ฮ่องกง
ความต้านทาน 1×10-5โอห์ม*ซม
เสถียรภาพทางความร้อน <2500 ℃
การเปลี่ยนแปลงขนาดกราไฟท์ -10~-20um
ความหนาของการเคลือบ ≥20umค่าทั่วไป (35um ± 10um)


ข้อมูล EDX ของการเคลือบ TaC：

EDX data of TaC coating


ข้อมูลโครงสร้างผลึกเคลือบ TaC:

องค์ประกอบ เปอร์เซ็นต์อะตอม
พ.ต. 1 พ.ต. 2 พ.ต. 3 เฉลี่ย
ซีเค 52.10 57.41 52.37 53.96
พวกเขา 47.90 42.59 47.63 46.04


View as  
 
กราไฟท์ที่มีรูพรุนพร้อม TAC เคลือบ

กราไฟท์ที่มีรูพรุนพร้อม TAC เคลือบ

กราไฟท์ที่มีรูพรุนพร้อม TAC Coated เป็นวัสดุการประมวลผลเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูงที่จัดทำโดย Vetek Semiconductor กราไฟท์ที่มีรูพรุนที่มีการเคลือบ TAC รวมข้อดีของการเคลือบกราไฟท์ที่มีรูพรุนและการเคลือบ Tantalum Carbide (TAC) ด้วยการนำความร้อนที่ดีและการซึมผ่านของก๊าซ Vetek Semiconductor มุ่งมั่นที่จะจัดหาผลิตภัณฑ์ที่มีคุณภาพในราคาที่แข่งขันได้
ดูเพิ่มเติม >> ส่งคำถาม >>
ฝาครอบเคลือบ Tantalum Carbide

ฝาครอบเคลือบ Tantalum Carbide

ฝาครอบเคลือบ Tantalum Carbide ประกอบด้วยกราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงและการเคลือบ TAC Vetek Semiconductor เป็นซัพพลายเออร์ชั้นนำและผู้ผลิตปกเคลือบ Tantalum Carbide ในประเทศจีน เรามุ่งเน้นไปที่การจัดหาผลิตภัณฑ์ Tantalum Carbide ที่มีความสุขสูงและมีอุณหภูมิสูง ฝาครอบเคลือบผิวหนัง Tantalum Carbide ของเรามีประสิทธิภาพและความน่าเชื่อถือที่ยอดเยี่ยมและสามารถปกป้องวัสดุในอุณหภูมิที่สูงและมีการกัดกร่อนได้อย่างมีประสิทธิภาพ เราหวังว่าจะได้เป็นหุ้นส่วนระยะยาวของคุณในประเทศจีน ยินดีต้อนรับที่จะปรึกษาได้ตลอดเวลา
ดูเพิ่มเติม >> ส่งคำถาม >>
แหวน deflector เคลือบ TAC

แหวน deflector เคลือบ TAC

แหวน deflector เคลือบ TAC ของ Vetek Semiconductor เป็นส่วนประกอบที่มีความเชี่ยวชาญสูงที่ออกแบบมาสำหรับกระบวนการเจริญเติบโตของคริสตัล SIC การเคลือบ TAC ให้ความต้านทานอุณหภูมิสูงและความเฉื่อยทางเคมีที่ดีเยี่ยมเพื่อรับมือกับอุณหภูมิสูงและสภาพแวดล้อมที่มีการกัดกร่อนในระหว่างกระบวนการเจริญเติบโตของคริสตัล สิ่งนี้ทำให้มั่นใจได้ว่าประสิทธิภาพที่มั่นคงและอายุการใช้งานที่ยาวนานของส่วนประกอบลดความถี่ในการเปลี่ยนและการหยุดทำงาน เรามุ่งมั่นที่จะจัดหาผลิตภัณฑ์ที่มีคุณภาพในราคาที่แข่งขันได้และหวังว่าจะได้เป็นหุ้นส่วนระยะยาวของคุณในประเทศจีนขอให้ปรึกษาได้ตลอดเวลา
ดูเพิ่มเติม >> ส่งคำถาม >>
ท่อเคลือบ Tantalum Carbide สำหรับการเจริญเติบโตของคริสตัล

ท่อเคลือบ Tantalum Carbide สำหรับการเจริญเติบโตของคริสตัล

ท่อเคลือบ Tantalum Carbide สำหรับการเจริญเติบโตของคริสตัลส่วนใหญ่ใช้ในกระบวนการเจริญเติบโตของคริสตัล SIC Vetek Semiconductor จัดหาท่อเคลือบ Tantalum Carbide สำหรับการเติบโตของคริสตัลมาหลายปีและทำงานในด้านการเคลือบ TAC มาหลายปี ผลิตภัณฑ์ของเรามีความบริสุทธิ์สูงและความต้านทานอุณหภูมิสูง เราหวังว่าจะได้เป็นหุ้นส่วนระยะยาวของคุณในประเทศจีน อย่าลังเลที่จะสอบถามเรา
ดูเพิ่มเติม >> ส่งคำถาม >>
วงแหวนเคลือบ TaC สำหรับเครื่องปฏิกรณ์แบบอีปิแอกเชียล SiC

วงแหวนเคลือบ TaC สำหรับเครื่องปฏิกรณ์แบบอีปิแอกเชียล SiC

Vetek Semiconductor เป็นผู้ผลิตชั้นนำและผู้ริเริ่มเทคโนโลยีของแหวนเคลือบ TAC สำหรับเครื่องปฏิกรณ์ Epitaxial SIC ในประเทศจีนโดยมุ่งเน้นที่การจัดหาโซลูชั่นประสิทธิภาพสูงสำหรับเครื่องปฏิกรณ์ Epitaxial SIC เรามีประสบการณ์หลายปีในเทคโนโลยีการเคลือบ TAC แหวนเคลือบ TAC มีลักษณะของความบริสุทธิ์สูงความเสถียรสูงความต้านทานการกัดกร่อนที่ยอดเยี่ยม ฯลฯ และสามารถให้ประสิทธิภาพที่มั่นคงในระยะยาวในสภาพแวดล้อมการทำงานที่รุนแรงของเครื่องปฏิกรณ์ epitaxial เราหวังว่าจะได้สร้างความร่วมมือเชิงกลยุทธ์ระยะยาวกับคุณ
ดูเพิ่มเติม >> ส่งคำถาม >>
ชิ้นส่วนฮาล์ฟมูนเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์สำหรับ LPE

ชิ้นส่วนฮาล์ฟมูนเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์สำหรับ LPE

VeTek Semiconductor เป็นซัพพลายเออร์ชั้นนำของชิ้นส่วนเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์สำหรับ LPE ในประเทศจีน โดยมุ่งเน้นที่เทคโนโลยีการเคลือบ TaC มาหลายปี ชิ้นส่วนฮาล์ฟมูนเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์สำหรับ LPE ของเราได้รับการออกแบบมาสำหรับกระบวนการ epitaxy เฟสของเหลว และสามารถทนต่ออุณหภูมิสูงกว่า 2,000 องศาเซลเซียส ด้วยประสิทธิภาพของวัสดุที่ยอดเยี่ยมและนวัตกรรมกระบวนการ อายุการใช้งานผลิตภัณฑ์ของเราจึงอยู่ในระดับชั้นนำในอุตสาหกรรม VeTek Semiconductor มุ่งหวังที่จะเป็นพันธมิตรระยะยาวของคุณในประเทศจีน
ดูเพิ่มเติม >> ส่งคำถาม >>
ในฐานะผู้ผลิตและซัพพลายเออร์มืออาชีพ การเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ ในประเทศจีนเรามีโรงงานของเราเอง ไม่ว่าคุณต้องการบริการที่กำหนดเองเพื่อตอบสนองความต้องการเฉพาะของภูมิภาคของคุณหรือต้องการซื้อขั้นสูงและทนทาน การเคลือบแทนทาลัมคาร์ไบด์ ที่ผลิตในประเทศจีนคุณสามารถฝากข้อความถึงเราได้
คำแนะนำข่าวสาร
การออกแบบสนามความร้อนสำหรับการเจริญเติบโตของผลึกเดี่ยว SIC
การออกแบบสนามความร้อนสำหรับการเจริญเติบโตของผลึกเดี่ยว SICดูเพิ่มเติม >>
คาร์บอนแก้วคืออะไร - Veteksemicon
คาร์บอนแก้วคืออะไร - Veteksemiconดูเพิ่มเติม >>
วัสดุนาโนซิลิกอนคาร์ไบด์
วัสดุนาโนซิลิกอนคาร์ไบด์ดูเพิ่มเติม >>
คุณรู้เรื่องแซฟไฟร์มากแค่ไหน?
คุณรู้เรื่องแซฟไฟร์มากแค่ไหน?ดูเพิ่มเติม >>
การผลิตชิป: การสะสมชั้นอะตอม (ALD)
การผลิตชิป: การสะสมชั้นอะตอม (ALD)ดูเพิ่มเติม >>
เซรามิก Sic ที่กดร้อนคืออะไร?
เซรามิก Sic ที่กดร้อนคืออะไร?ดูเพิ่มเติม >>
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept