ท่อเตาควอทซ์สำหรับเตากระจาย

1. คุณสมบัติและข้อดีที่สำคัญ

• ควอตซ์หลอมละลายที่มีความบริสุทธิ์สูงพิเศษ (SiO₂ ≥ 99.999%) โดยมีการควบคุมสิ่งเจือปนของโลหะที่ระดับ ppb และมีปริมาณไฮดรอกซิลต่ำมาก

• อุณหภูมิในการทำงานระยะยาวสูงถึง 1100 °C; ความต้านทานสูงสุดในระยะสั้นถึง 1200 °C

• ทนต่อแรงกระแทกจากความร้อนได้ดีเยี่ยมหลังจากการอบอ่อนแบบบรรเทาความเครียดเต็มที่ ทนทานต่อการแตกร้าวภายใต้การเปลี่ยนแปลงของอุณหภูมิอย่างรวดเร็ว

• ความเฉื่อยทางเคมีที่โดดเด่นต่อก๊าซในกระบวนการออกซิไดซ์ รีดิวซ์ และที่มีฮาโลเจน เหมาะสำหรับพลาสมาและบรรยากาศที่มีฤทธิ์กัดกร่อน

• การปล่อยก๊าซสุญญากาศต่ำมาก; ผนังด้านในเรียบช่วยลดการสะสมของผลพลอยได้และสนับสนุนกระบวนการทำซ้ำ

• การขึ้นรูปชิ้นเดียวที่มีความหนาของผนังสม่ำเสมอ ความร่วมแกนสูง และปลายที่ผ่านการขัดเงาอย่างแม่นยำเพื่อการปิดผนึกที่เชื่อถือได้

• โครงสร้างที่ปรับแต่งได้: ท่อตรง ท่อลด ท่อหน้าแปลน ความยาวที่ขยาย และการกำหนดค่าปลายพิเศษสำหรับเตาเผาแนวตั้งหรือแนวนอน

2. การใช้งานทั่วไป

หลอดเตาควอทซ์ VeTek ถูกนำมาใช้กันอย่างแพร่หลายเป็นห้องปฏิกิริยาหลักใน:

• เตาออกซิเดชันความร้อน (ออกซิเดชันแห้ง/เปียก)

• เตาหลอมสำหรับการแนะนำสารเจือปน (B, P, As ฯลฯ)

• ระบบ LPCVD สำหรับการสะสมของฟิล์มบาง

• การหลอมด้วยสุญญากาศและกระบวนการบำบัดความร้อนที่อุณหภูมิสูงอื่นๆ

• ใช้งานได้กับแพลตฟอร์มเวเฟอร์ขนาด 4 นิ้ว, 6 นิ้ว, 8 นิ้ว และ 12 นิ้ว (พื้นผิว Si, SiC, GaN, แซฟไฟร์)

รองรับลอจิก หน่วยความจำ อุปกรณ์จ่ายไฟ MCU, LED, MEMS และสายการผลิตเซมิคอนดักเตอร์แถบความถี่กว้างที่ต้องการอุณหภูมิที่สม่ำเสมอ การควบคุมการไหลของก๊าซ และสภาพแวดล้อมกระบวนการที่สะอาดเป็นพิเศษ

3. พารามิเตอร์ทางเทคนิคที่สำคัญ

• วัสดุ: ควอตซ์ผสมดีไฮดรอกซิเลตเกรดเซมิคอนดักเตอร์ (SiO₂ ≥ 99.999%), ไฮดรอกซิลต่ำ, สิ่งเจือปนที่เป็นโลหะต่ำ

• ความเข้ากันได้ของเวเฟอร์: 4 / 6 / 8 / 12 นิ้ว

• อุณหภูมิในการทำงานระยะยาว: −20 °C ถึง 1100 °C; สูงสุดในระยะสั้นสูงถึง 1200 °C

• กระบวนการ: การขึ้นรูปด้วยความร้อนชิ้นเดียว การทำให้ผนังเป็นเนื้อเดียวกัน การตกแต่งขั้นสุดท้าย การหลอมแบบบรรเทาความเครียด การทดสอบการรั่วของฮีเลียม การทำความสะอาดที่สะอาดเป็นพิเศษ

• โครงสร้างที่มีจำหน่าย: ท่อตรง, ท่อลด, ท่อหน้าแปลน, ท่อขยาย / ความยาวที่กำหนดเอง, การกำหนดค่าปลายพิเศษ

• การปรับแต่ง: เส้นผ่านศูนย์กลางภายใน/ภายนอก ความยาว ความหนาของผนัง ข้อมูลจำเพาะของหน้าแปลน และรูปทรงพิเศษตามแบบของลูกค้า

4. เหตุใดจึงเลือกหลอด VeTek Quartz Furnace

ในฐานะผู้ผลิตส่วนประกอบควอตซ์เซมิคอนดักเตอร์ระดับมืออาชีพ VeTek Semiconductor นำเสนอ:

• ท่อเตาควอทซ์ที่มีความบริสุทธิ์สูงออกแบบมาสำหรับอุปกรณ์ออกซิเดชั่น การแพร่กระจาย LPCVD และอุปกรณ์หลอม

• การควบคุมความบริสุทธิ์อย่างเข้มงวด ความแม่นยำของมิติ และความสะอาด เหมาะสำหรับการผลิตห้องปลอดเชื้อคลาส 10 / คลาส 100

• การปรับแต่งเต็มรูปแบบและการออกแบบที่เข้ากันได้กับ OEM สำหรับเตาหลอมท่อแนวตั้งและแนวนอน

• ผลิตภัณฑ์ควอทซ์เซมิคอนดักเตอร์เสริม รวมถึงเรือเวเฟอร์ ถ้วยใส่ตัวอย่าง ไลเนอร์ และส่วนประกอบกระบวนการอื่นๆ

ท่อเตาควอทซ์ของเราช่วยรักษาสภาวะความร้อนและการไหลของก๊าซให้คงที่ ลดการปนเปื้อนของอนุภาคและโลหะ และยืดอายุการใช้งานภายใต้การหมุนเวียนที่อุณหภูมิสูงอย่างต่อเนื่อง ซึ่งสนับสนุนผลผลิตที่สูงขึ้นและต้นทุนการเป็นเจ้าของที่ลดลงในการประมวลผลความร้อนของเซมิคอนดักเตอร์