สินค้า
สินค้า
Veeco Mocvd Providence
  • Veeco Mocvd ProvidenceVeeco Mocvd Providence

Veeco Mocvd Providence

ในฐานะผู้ผลิตชั้นนำและซัพพลายเออร์ของผลิตภัณฑ์ Veeco MOCVD sensceptor ในประเทศจีน, VETEK Semiconductor ของ VOCVD venceptor แสดงถึงจุดสุดยอดของนวัตกรรมและความเป็นเลิศทางวิศวกรรมซึ่งได้รับการปรับแต่งเป็นพิเศษเพื่อตอบสนองความต้องการที่ซับซ้อนของกระบวนการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ร่วมสมัย ยินดีต้อนรับสอบถามเพิ่มเติมของคุณ
เรตติ้ง: 5.0
(การนับเรตติ้ง: 1)

มันเป็นเซมิคอนดักเตอร์veeco mocvdWafer sensceptor เป็นส่วนประกอบที่สำคัญซึ่งออกแบบอย่างพิถีพิถันโดยใช้กราไฟท์ ultrapure กับ aการเคลือบซิลิกอนคาร์ไบด์ (SIC)- นี้การเคลือบ SICให้ประโยชน์มากมายโดยเฉพาะอย่างยิ่งที่เปิดใช้งานการถ่ายโอนความร้อนที่มีประสิทธิภาพไปยังสารตั้งต้น การบรรลุการกระจายความร้อนที่ดีที่สุดในพื้นผิวเป็นสิ่งจำเป็นสำหรับการควบคุมอุณหภูมิสม่ำเสมอทำให้มั่นใจได้ว่าการสะสมแบบฟิล์มบางคุณภาพสูงซึ่งมีความสำคัญในการผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์


พารามิเตอร์ทางเทคนิค

เมทริกซ์ของคุณสมบัติวัสดุ

ตัวบ่งชี้สำคัญ Vetek Standard Solutions ดั้งเดิม

ความบริสุทธิ์ของวัสดุพื้นฐาน 6N กราไฟท์ขนาด 5N

ระดับการจับคู่ CTE (25-1400 ℃) Δα≤0.3×10⁻⁶/ K Δα≥1.2×10⁻⁶/ K

การนำความร้อน @800 ℃ 110 w/m · k 85 w/m · k

ความขรุขระพื้นผิว (RA) ≤0.1μm≥0.5μm

ความทนทานต่อกรด (pH = 1@80 ℃) 1500 รอบ 300 รอบ

การสร้างความได้เปรียบหลัก

นวัตกรรมการจัดการความร้อน

เทคนิคการจับคู่อะตอม CTE


สารตั้งต้นของญี่ปุ่น Toyo Carbon Carbon/SGL + การเคลือบ SIC ไล่ระดับสี


ความเครียดวัฏจักรความร้อนลดลง 82% (วัด 1,400 ℃↔rt 500 รอบโดยไม่ต้องแคร็ก)


การออกแบบสนามความร้อนอัจฉริยะ


โครงสร้างการชดเชยอุณหภูมิ 12 โซน: บรรลุ± 0.5 ℃ความสม่ำเสมอบนพื้นผิวของเวเฟอร์φ200mm


การตอบสนองทางความร้อนแบบไดนามิก: การไล่ระดับอุณหภูมิ≤1.2℃/cm ที่อัตราการทำความร้อน 5 ℃/s


ระบบป้องกันสารเคมี
อุปสรรคคอมโพสิตสาม


ชั้นป้องกันหลักของ SIC 50μm


Nanotac Transition Layer (ไม่บังคับ)


ความหนาแน่นของการแทรกซึมของก๊าซ


ตรวจสอบโดย ASTM G31-21:


อัตราการกัดกร่อนฐาน CL <0.003 มม./ปี


NH3 เปิดเผยเป็นเวลา 1,000 ชม. โดยไม่มีการกัดกร่อนของเมล็ดข้าว


ระบบการผลิตอัจฉริยะ

การประมวลผลคู่ดิจิตอล

ศูนย์เครื่องจักรกลห้าแกน: ความแม่นยำของตำแหน่ง±1.5μm


การตรวจสอบการสแกน 3 มิติออนไลน์: การตรวจสอบขนาดเต็ม 100% (ตาม ASME Y14.5)


การนำเสนอมูลค่าตามสถานการณ์

การผลิตมวลเซมิคอนดักเตอร์รุ่นที่สาม

แอปพลิเคชันสถานการณ์สถานการณ์พารามิเตอร์ผลประโยชน์ของลูกค้า

Gan HEMT 6 นิ้ว /150μm epitaxial ความหนาแน่นของความหนาแน่นของก๊าซอิเล็กตรอนสองมิติ <2%

SIC MOSFET C การเติมความสม่ำเสมอ± 3% เบี่ยงเบนแรงดันไฟฟ้าเกณฑ์ลดลง 40%

ความสม่ำเสมอของความยาวคลื่น Micro LED ± 1.2nm Chip Bin เพิ่มขึ้น 15%

การเพิ่มประสิทธิภาพต้นทุนการบำรุงรักษา

ระยะเวลาการทำความสะอาดจะขยายออกไป 3 ครั้ง: HF: HNO ₃ = 1: 3 รองรับการทำความสะอาดความเข้มสูงสูง


ชิ้นส่วนอะไหล่ระบบการทำนายอายุการใช้งาน: ความแม่นยำของอัลกอริทึม AI ที่± 5%




Vetek Semiconductor Veoeco MOCVD Sensceptor Shops:

VEECO MOCVD susceptor shops


ส่งคำถาม
ข้อมูลติดต่อ
  • ที่อยู่

    ถนน Wangda, ถนน Ziyang, เขต Wuyi, เมือง Jinhua, จังหวัดเจ้อเจียง, จีน

  • โทร

    +86-18069220752

  • อีเมล

    anny@veteksemi.com

For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.
เรตติ้ง:
5.0
X
เราใช้คุกกี้เพื่อมอบประสบการณ์การท่องเว็บที่ดีขึ้น วิเคราะห์การเข้าชมไซต์ และปรับแต่งเนื้อหาในแบบของคุณ การใช้ไซต์นี้แสดงว่าคุณยอมรับการใช้คุกกี้ของเรา นโยบายความเป็นส่วนตัว
ปฏิเสธยอมรับ