วงแหวนโฟกัส CVD SIC เป็นองค์ประกอบหลักในการแกะสลักแบบแห้งส่วนใหญ่ใช้เพื่อโฟกัสพลาสมาเพื่อให้มีความหนาแน่นและพลังงานสูงขึ้นบนพื้นผิวเวเฟอร์ มันมีฟังก์ชั่นของการกระจายก๊าซอย่างสม่ำเสมอ Vetek Semiconductor เติบโตเลเยอร์ SIC โดยเลเยอร์ผ่านกระบวนการ CVD และในที่สุดก็ได้รับวงแหวนโฟกัส CVD SIC วงแหวนโฟกัส CVD SIC ที่เตรียมไว้สามารถตอบสนองความต้องการของกระบวนการแกะสลักได้อย่างสมบูรณ์แบบ
วงแหวนโฟกัส CVD SIC นั้นยอดเยี่ยมในคุณสมบัติเชิงกล, คุณสมบัติทางเคมี, การนำความร้อน, ความต้านทานอุณหภูมิสูง, ความต้านทานการแกะสลักไอออน ฯลฯ ฯลฯ
For inquiries about Silicon Carbide Coating, Tantalum Carbide Coating, Special Graphite or price list, please leave your email to us and we will be in touch within 24 hours.