CVD SIC Coating Graphite Vexceptor ได้รับการออกแบบมาเป็นพิเศษสำหรับการผลิตที่มีความแม่นยำสูงในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์ พื้นผิวกราไฟท์ถูกเคลือบด้วยชั้น SIC ที่มีความบริสุทธิ์สูงโดยกระบวนการ CVD ซึ่งมีความต้านทานอุณหภูมิสูงที่ยอดเยี่ยมความต้านทานการกัดกร่อนและความต้านทานต่อการเกิดออกซิเดชันและสามารถทำงานได้อย่างเสถียรเป็นเวลานานในสภาพแวดล้อมที่อุณหภูมิสูงและสุญญากาศ แท่นนี้ใช้กันอย่างแพร่หลายใน MOCVD, PECVD, PVD และอุปกรณ์อื่น ๆ เพื่อรองรับการประมวลผลและการจัดการเวเฟอร์และวัสดุที่มีความแม่นยำสูงอื่น ๆ
● ความเสถียรของอุณหภูมิสูง: กราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงนั้นมีความเสถียรทางความร้อนที่ยอดเยี่ยม หลังจากถูกเคลือบด้วยการเคลือบ SIC แล้วมันสามารถทนต่อสภาพแวดล้อมที่อุณหภูมิสูงขึ้นและเหมาะสำหรับกระบวนการอุณหภูมิสูงในการประมวลผลเซมิคอนดักเตอร์ ● มุมความต้านทานต่อไอออน: การเคลือบ CVD SIC ทนทานต่อการกัดกร่อนของกรดและอัลคาไลและสามารถมีอายุการใช้งานที่ยาวนานในกระบวนการ CVD ● สูง hความกระตือรือร้นและความต้านทานออกซิเดชัน: การเคลือบ CVD SIC มีความแข็งที่ยอดเยี่ยมความต้านทานรอยขีดข่วนและความต้านทานต่อการเกิดออกซิเดชันที่อุณหภูมิสูงเพื่อรักษาเสถียรภาพของวัสดุ ● การนำความร้อนที่ดี: การรวมกันของสารตั้งต้นกราไฟท์และไวรัสเคลือบผิว SIC CVD ทำให้ฐานมีค่าการนำความร้อนที่ยอดเยี่ยมซึ่งสามารถดำเนินการความร้อนและปรับปรุงประสิทธิภาพการผลิตได้อย่างมีประสิทธิภาพ
● ความเสถียรของอุณหภูมิสูง: กราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงนั้นมีความเสถียรทางความร้อนที่ยอดเยี่ยม หลังจากถูกเคลือบด้วยการเคลือบ SIC แล้วมันสามารถทนต่อสภาพแวดล้อมที่อุณหภูมิสูงขึ้นและเหมาะสำหรับกระบวนการอุณหภูมิสูงในการประมวลผลเซมิคอนดักเตอร์
● มุมความต้านทานต่อไอออน: การเคลือบ CVD SIC ทนทานต่อการกัดกร่อนของกรดและอัลคาไลและสามารถมีอายุการใช้งานที่ยาวนานในกระบวนการ CVD
● สูง hความกระตือรือร้นและความต้านทานออกซิเดชัน: การเคลือบ CVD SIC มีความแข็งที่ยอดเยี่ยมความต้านทานรอยขีดข่วนและความต้านทานต่อการเกิดออกซิเดชันที่อุณหภูมิสูงเพื่อรักษาเสถียรภาพของวัสดุ
● การนำความร้อนที่ดี: การรวมกันของสารตั้งต้นกราไฟท์และไวรัสเคลือบผิว SIC CVD ทำให้ฐานมีค่าการนำความร้อนที่ยอดเยี่ยมซึ่งสามารถดำเนินการความร้อนและปรับปรุงประสิทธิภาพการผลิตได้อย่างมีประสิทธิภาพ
● วัสดุ: สารตั้งต้นกราไฟท์ + การเคลือบ SIC CVD ● ความหนาของการเคลือบ: สามารถปรับแต่งตามความต้องการของลูกค้า ● สภาพแวดล้อมที่ใช้งานได้: อุณหภูมิสูงสุญญากาศสภาพแวดล้อมก๊าซกัดกร่อน
● วัสดุ: สารตั้งต้นกราไฟท์ + การเคลือบ SIC CVD
● ความหนาของการเคลือบ: สามารถปรับแต่งตามความต้องการของลูกค้า
● สภาพแวดล้อมที่ใช้งานได้: อุณหภูมิสูงสุญญากาศสภาพแวดล้อมก๊าซกัดกร่อน
เราให้บริการที่กำหนดเองสูงเพื่อตอบสนองความต้องการของอุปกรณ์และกระบวนการต่าง ๆ ของลูกค้า ตามแอพพลิเคชั่นเฉพาะของลูกค้าฐานกราไฟท์ที่มีความหนาของการเคลือบที่แตกต่างกันการรักษาพื้นผิวและระดับความแม่นยำสามารถให้ได้
Veteksemi ทำงานอยู่ในอุตสาหกรรมการเคลือบ CVD Silicon Carbide และมีการผลิตฐานกราไฟท์และระดับการผลิต CVD SIC ชั้นนำในอุตสาหกรรมและระดับการผลิต หากคุณต้องการข้อมูลผลิตภัณฑ์เพิ่มเติมหรือบริการที่กำหนดเองโปรดติดต่อ Vetek Semiconductor เราจะให้การสนับสนุนอย่างมืออาชีพอย่างสุดซึ้ง
ที่อยู่
ถนน Wangda, ถนน Ziyang, เขต Wuyi, เมือง Jinhua, จังหวัดเจ้อเจียง, จีน
โทร
+86-18069220752
อีเมล
anny@veteksemi.com
WhatsApp
Tina
E-mail
Andy
VeTek