AMAT ฝาครอบ Top Quartz 8 นิ้ว PCII

AMAT Cover Top Quartz 8 นิ้ว PCII (หมายเลขชิ้นส่วน 0200-00218) เป็นส่วนประกอบควอตซ์ที่มีความบริสุทธิ์สูง ออกแบบมาเพื่อใช้ในห้องกระบวนการ PVD ขนาด 200 มม. (8 นิ้ว) โดยเข้ากันได้เป็นพิเศษกับแพลตฟอร์ม Applied Materials Endura® (ห้อง PCII)

ผลิตจากควอตซ์ผสมที่มีความบริสุทธิ์สูงเป็นพิเศษ ส่วนประกอบนี้มีบทบาทสำคัญในการรักษาสภาพแวดล้อมการสะสมที่สะอาดและเสถียร โดยลดการปนเปื้อนและรับรองพฤติกรรมของพลาสมาที่สอดคล้องกัน

ที่ Vetek Semiconductor เราจัดหาชิ้นส่วนควอตซ์ที่ออกแบบอย่างแม่นยำพร้อมการควบคุมวัสดุที่เข้มงวดและความแม่นยำของมิติ นำเสนอทางเลือกที่เชื่อถือได้สำหรับโรงงานผลิตเซมิคอนดักเตอร์และผู้ให้บริการอุปกรณ์

ข้อมูลจำเพาะที่สำคัญ:

การสมัครกระบวนการและตำแหน่งห้องเพาะเลี้ยง

ฝาครอบควอตซ์นี้ได้รับการออกแบบมาเป็นพิเศษสำหรับกระบวนการสปัตเตอร์ PVD ซึ่งใช้กันอย่างแพร่หลายในการผลิตเซมิคอนดักเตอร์สำหรับการสะสมฟิล์มบางของโลหะ เช่น อลูมิเนียม (Al) ไทเทเนียม (Ti) และทองแดง (Cu)

ตำแหน่งห้อง

ส่วนประกอบได้รับการติดตั้งไว้ที่ส่วนบนของห้อง PVD หรือที่เรียกกันทั่วไปว่าบริเวณฝาครอบด้านบน ซึ่งสัมผัสกับ:

● โซนจำหน่ายพลาสม่า

● ประมวลผลเส้นทางการไหลของก๊าซ

● สภาพแวดล้อมการสะสมของอนุภาคโลหะ

บทบาทหน้าที่ในหอการค้า

ภายในโครงสร้างห้องเพาะเลี้ยง Cover Top Quartz ทำหน้าที่เป็นเกราะป้องกันที่ไม่ใช่โลหะและองค์ประกอบฉนวน ซึ่งอยู่เหนือแผ่นเวเฟอร์และใกล้กับบริเวณเป้าหมาย

ตำแหน่งเป็นสิ่งสำคัญสำหรับ:

● ป้องกันส่วนประกอบห้องที่มีความละเอียดอ่อนจากการสะสมของโลหะ

● การบำรุงรักษาฉนวนไฟฟ้าในสภาพแวดล้อมพลาสมา RF

● รองรับสภาวะกระบวนการที่เสถียรและทำซ้ำได้

ฟังก์ชั่นหลักและข้อดีด้านประสิทธิภาพ

1) การควบคุมการปนเปื้อน

ในระหว่างกระบวนการ PVD อะตอมของโลหะสปัตเตอร์มักจะสะสมไม่เพียงแต่บนแผ่นเวเฟอร์เท่านั้น แต่ยังอยู่บนพื้นผิวห้องภายในด้วย

ฝาครอบควอทซ์นี้:

● ทำหน้าที่เป็นชั้นป้องกันแบบบูชายัญ

● ป้องกันการสะสมตัวของโลหะบนโครงสร้างห้องวิกฤต

● ลดการสร้างอนุภาคและการปนเปื้อนข้าม

ผลลัพธ์: ปรับปรุงผลผลิตเวเฟอร์และความสะอาดของกระบวนการ

2) ความเสถียรของพลาสมาและฉนวนไฟฟ้า

ด้วยคุณสมบัติไดอิเล็กตริกที่ดีเยี่ยม ควอตซ์ที่มีความบริสุทธิ์สูงจึงรับประกัน:

● การกระจายสนาม RF ที่เสถียร

● ลดความเสี่ยงของการรบกวนทางไฟฟ้า

● ความหนาแน่นของพลาสมาสม่ำเสมอตลอดรอบกระบวนการ

ผลลัพธ์: ปรับปรุงความสม่ำเสมอของฟิล์มและความสามารถในการทำซ้ำ

3) ความบริสุทธิ์ของวัสดุที่เหนือกว่า

Vetek Semiconductor ใช้วัสดุควอตซ์ที่มีความบริสุทธิ์สูงเป็นพิเศษเพื่อลดการแนะนำสิ่งเจือปนให้เหลือน้อยที่สุด

● การปนเปื้อนของโลหะต่ำ

● ก๊าซออกน้อยที่สุดภายใต้สภาวะสุญญากาศ

● เหมาะสำหรับโหนดเซมิคอนดักเตอร์ขั้นสูง

ผลลัพธ์: ตรงตามมาตรฐานความสะอาดระดับ Fab ที่เข้มงวด

4) พลาสมาและความต้านทานความร้อนที่ดีเยี่ยม

ส่วนประกอบได้รับการออกแบบทางวิศวกรรมให้ทนทานต่อ:

● การกัดเซาะของพลาสมาและการทิ้งระเบิดไอออน

● การหมุนเวียนความร้อนซ้ำๆ

ผลลัพธ์: อายุการใช้งานยาวนานขึ้นและลดความถี่ในการบำรุงรักษา

5) การออกแบบวัสดุสิ้นเปลืองที่คุ้มค่า

ชิ้นส่วนนี้เป็นวัสดุสิ้นเปลืองสำหรับห้องเปลี่ยนได้:

● ปกป้องฮาร์ดแวร์ห้องราคาแพง

● ลดความซับซ้อนของรอบการบำรุงรักษา

● ลดต้นทุนรวมในการเป็นเจ้าของ (TCO)

เหตุใดจึงเลือก Vetek Semiconductor

ที่ Vetek Semiconductor เราผสมผสานความเชี่ยวชาญด้านวัสดุศาสตร์เข้ากับความเข้าใจกระบวนการเซมิคอนดักเตอร์เพื่อส่งมอบส่วนประกอบควอตซ์ประสิทธิภาพสูง

ข้อดีของเรา:

● การตัดเฉือนที่แม่นยำพร้อมพิกัดความเผื่อที่แคบ

● การคัดเลือกวัตถุดิบอย่างเข้มงวดและการตรวจสอบย้อนกลับ

● พิสูจน์ความเข้ากันได้กับแพลตฟอร์ม AMAT Endura

● อุปทานที่มั่นคงสำหรับลูกค้าเซมิคอนดักเตอร์ทั่วโลก

● การสนับสนุนทางวิศวกรรมสำหรับการปรับแต่งและการเพิ่มประสิทธิภาพ