กระบวนการ Epitaxy SiC

การเคลือบ TAC สามารถทนต่ออุณหภูมิสูงที่ 2200 ℃ Vetek Semiconductor ให้การเคลือบ TAC ที่มีความบริสุทธิ์สูงพร้อมสิ่งสกปรกต่ำกว่า 5ppm ในประเทศจีน แผ่นรองรับการเคลือบผิว TAC สามารถทนต่อไฮโดรเจนแอมโมเนีย, argonin ในห้องปฏิกิริยาของอุปกรณ์ epitaxial มันช่วยเพิ่มอายุการใช้งานของผลิตภัณฑ์ คุณให้ข้อกำหนดเราให้การปรับแต่ง

Chuck การเคลือบ TAC ของ Vetek Semiconductor มีพื้นผิวที่มีคุณภาพสูงซึ่งเป็นที่รู้จักกันดีในเรื่องความต้านทานอุณหภูมิสูงและความเฉื่อยทางเคมีโดยเฉพาะอย่างยิ่งในกระบวนการ Epitaxy (EPI) ของซิลิกอนคาร์ไบด์ (SIC) ด้วยคุณสมบัติที่ยอดเยี่ยมและประสิทธิภาพที่เหนือกว่า Chuck TAC Coating ของเรานำเสนอข้อได้เปรียบที่สำคัญหลายประการเรามุ่งมั่นที่จะจัดหาผลิตภัณฑ์ที่มีคุณภาพในราคาที่แข่งขันได้และหวังว่าจะได้เป็นหุ้นส่วนระยะยาวของคุณในประเทศจีน

LPE SIC EPI Halfmoon เป็นการออกแบบพิเศษสำหรับเตาหลอม Epitaxy Horizonational ซึ่งเป็นผลิตภัณฑ์ปฏิวัติที่ออกแบบมาเพื่อยกระดับกระบวนการ Epitaxy เครื่องปฏิกรณ์ LPE โซลูชันที่ทันสมัยนี้มีคุณสมบัติสำคัญหลายประการที่ทำให้มั่นใจได้ว่าประสิทธิภาพและประสิทธิภาพที่เหนือกว่าตลอดการดำเนินงานการผลิตของคุณ Vetek Semiconductor เป็นมืออาชีพในการผลิต LPE SIC EPI Halfmoon ใน 6 นิ้ว 8 นิ้วมองไปข้างหน้าเพื่อตั้งค่าความร่วมมือระยะยาวกับคุณ

ชิ้นส่วน Halfmoon ที่เคลือบด้วยการเคลือบ CVD TAC นั้นทนทานกว่าชิ้นส่วน Halfmoon ที่เคลือบด้วย SIC SIC Semiconductor เป็นผู้ผลิตชั้นนำและซัพพลายเออร์ในประเทศจีนสำหรับ Tantalum Carbide Tac Coated Halfmoon เราเชี่ยวชาญด้านการวิจัยและพัฒนา ราคา. คุณสามารถเยี่ยมชมโรงงานของเราเพื่อการอภิปรายเพิ่มเติมเกี่ยวกับความร่วมมือระยะยาว

VeTek Semiconductor คือผู้ผลิตแหวนสามกลีบเคลือบ TaC ชั้นนำและผู้ริเริ่มในประเทศจีน เรามีความเชี่ยวชาญในการเคลือบ TaC และ SiC มาหลายปี ผลิตภัณฑ์ของเรามีความต้านทานการกัดกร่อน มีความแข็งแรงสูง เราหวังว่าจะเป็นพันธมิตรระยะยาวของคุณในประเทศจีน ยินดีให้คำปรึกษาได้ตลอดเวลา

Vetek Semiconductor เป็นผู้ผลิตและผู้คิดค้นนวัตกรรมในประเทศจีนชั้นนำเรามีความเชี่ยวชาญในการเคลือบ TAC เป็นเวลาหลายปีผลิตภัณฑ์ของเรามีความบริสุทธิ์สูงและมีความต้านทานอุณหภูมิสูงถึง 2,000 ℃เราหวังว่าจะได้เป็นหุ้นส่วนระยะยาวของคุณในประเทศจีน