CVD SIC Coated Wafer Barrel Holder

การสะสมไอสารเคมีอินทรีย์โลหะ (MOCVD) เป็นเทคโนโลยีการเจริญเติบโตของ epitaxial ที่ร้อนแรงที่สุดในปัจจุบันซึ่งใช้กันอย่างแพร่หลายในการผลิตเลเซอร์เซมิคอนดักเตอร์และ LED โดยเฉพาะอย่างยิ่ง GaN epitaxy Epitaxy หมายถึงการเติบโตของฟิล์มคริสตัลเดี่ยวอีกชิ้นหนึ่งบนพื้นผิวคริสตัล เทคโนโลยี Epitaxy สามารถมั่นใจได้ว่าฟิล์มคริสตัลที่เพิ่งปลูกใหม่นั้นสอดคล้องกับโครงสร้างของพื้นผิวคริสตัลพื้นฐาน เทคโนโลยีนี้ช่วยให้การเติบโตของภาพยนตร์ที่มีคุณสมบัติเฉพาะบนพื้นผิวซึ่งเป็นสิ่งจำเป็นสำหรับการผลิตอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ประสิทธิภาพสูง

Wafer Barrel Holder เป็นองค์ประกอบสำคัญของเตาหลอมการเจริญเติบโตของ epitaxial CVD SIC Coating Wafer ที่ใช้กันอย่างแพร่หลายในเตาเผาการเจริญเติบโตของ Epitaxial CVD โดยเฉพาะอย่างยิ่งเตาเผาการเจริญเติบโตของ Epitaxial

ฟังก์ชั่นและ FEatures of cvd sic coated wafer barrel holder

●การพกพาและให้ความร้อน: CVD SIC Coated Barrel Wensceptor ใช้ในการพกพาพื้นผิวและให้ความร้อนที่จำเป็นในระหว่างกระบวนการ MOCVD CVD SIC Coated Wafer Barrel Holder ประกอบด้วยกราไฟท์ที่มีความบริสุทธิ์สูงและการเคลือบ SIC และมีประสิทธิภาพที่ยอดเยี่ยม

●ความสม่ำเสมอ: ในระหว่างกระบวนการ MOCVD ตัวยึดกระบอกสูบกราไฟท์หมุนอย่างต่อเนื่องเพื่อให้เกิดการเติบโตอย่างสม่ำเสมอของชั้น epitaxial

●เสถียรภาพทางความร้อนและความสม่ำเสมอของความร้อน: การเคลือบ SIC ของ SIC Coated Barrel vensceptor มีความเสถียรทางความร้อนที่ยอดเยี่ยมและความสม่ำเสมอของความร้อนดังนั้นจึงมั่นใจได้ถึงคุณภาพของชั้น epitaxial

●หลีกเลี่ยงการปนเปื้อน: ผู้ถือเวเฟอร์บาร์เรลเคลือบ CVD SIC มีความเสถียรที่ยอดเยี่ยมดังนั้นจะไม่ผลิตสารปนเปื้อนที่ตกลงมาในระหว่างการดำเนินการ

●อายุการใช้งานที่ยาวนานเป็นพิเศษ: เนื่องจากการเคลือบ SIC, CVD SIC Coated BARREL WESCEPTOR ยังคงมีความทนทานเพียงพอในอุณหภูมิสูงและสภาพแวดล้อมก๊าซกัดกร่อนของ MOCVD

แผนผังของเครื่องปฏิกรณ์ CVD บาร์เรล

คุณลักษณะที่ใหญ่ที่สุดของ CVD SIC SIC ของ Vetek Semiconductor

●ระดับสูงสุดของการปรับแต่ง: องค์ประกอบของวัสดุของสารตั้งต้นของกราไฟท์องค์ประกอบของวัสดุและความหนาของการเคลือบ SIC และโครงสร้างของตัวยึดเวเฟอร์สามารถปรับแต่งได้ตามความต้องการของลูกค้า

●อยู่ข้างหน้าซัพพลายเออร์รายอื่น: Vetek Semiconductor ของ SIC Coated Graphite Barrel Wesceptor สำหรับ EPI สามารถปรับแต่งได้ตามความต้องการของลูกค้า บนผนังด้านในเราสามารถสร้างรูปแบบที่ซับซ้อนเพื่อตอบสนองความต้องการของลูกค้า

นับตั้งแต่ก่อตั้งขึ้น Vetek Semiconductor ได้มุ่งมั่นที่จะสำรวจเทคโนโลยีการเคลือบ SIC อย่างต่อเนื่อง วันนี้ Vetek Semiconductor มีความแข็งแกร่งของผลิตภัณฑ์การเคลือบ SIC ชั้นนำของอุตสาหกรรม Vetek Semiconductor ตั้งตารอที่จะเป็นหุ้นส่วนของคุณในผลิตภัณฑ์ Wafer Wafer Barrel ที่เคลือบด้วย CVD SIC

ข้อมูล SEM ของโครงสร้างผลึกฟิล์มเคลือบ CVD SIC

คุณสมบัติทางกายภาพพื้นฐานของการเคลือบ CVD SIC