อัลดีกว่า

ในฐานะมืออาชีพอัลดีกว่าผู้ผลิตในประเทศจีนผลิตภัณฑ์ของเราอัลดีกว่าการควบคุมอุณหภูมิที่แม่นยำการกระจายก๊าซสม่ำเสมอและการนำความร้อนที่ยอดเยี่ยมและลักษณะผลิตภัณฑ์อื่น ๆ กำหนดว่าอัลดีกว่ามีบทบาทสำคัญในกระบวนการการสะสมชั้นอะตอม (ALD) บทบาทสำคัญยินดีต้อนรับการให้คำปรึกษาของคุณ

การสะสมฟิล์มบาง ๆ เครื่องแบบ: ALD venceptor ทำให้มั่นใจได้ว่าการสะสมของชั้นอะตอมอย่างสม่ำเสมอทั่วพื้นผิวเวเฟอร์ทั้งหมดในระหว่างกระบวนการการสะสมชั้นอะตอม (ALD) การออกแบบการหมุนที่เป็นเอกลักษณ์ของมันช่วยให้ก๊าซและสารตั้งต้นสามารถติดต่อพื้นผิวเวเฟอร์ได้อย่างสม่ำเสมอทำให้เกิดความหนาของฟิล์มสม่ำเสมอ นี่เป็นสิ่งสำคัญสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่มีความแม่นยำสูง

ปรับปรุงคุณภาพการสะสม: โดยการปรับการควบคุมอุณหภูมิและการกระจายก๊าซให้เหมาะสมผู้ป่วย ALD จะช่วยเพิ่มคุณภาพและประสิทธิภาพของฟิล์มอย่างมีนัยสำคัญลดข้อบกพร่องและความไม่สม่ำเสมอ สิ่งนี้ทำให้เหมาะสำหรับการผลิตเซมิคอนดักเตอร์ที่มีความแม่นยำสูงและการผลิตอุปกรณ์อิเล็กทรอนิกส์เพื่อให้มั่นใจถึงความน่าเชื่อถือและประสิทธิภาพของผลิตภัณฑ์

รองรับการประมวลผลหลายครั้ง: การออกแบบสัญญาณ ALD บางอย่างช่วยให้เวเฟอร์หลายแห่งสามารถประมวลผลได้พร้อมกันเพิ่มประสิทธิภาพการผลิต สิ่งนี้มีความสำคัญอย่างยิ่งสำหรับสภาพแวดล้อมการผลิตที่มีความเร็วสูงสามารถตอบสนองความต้องการของการผลิตขนาดใหญ่

รองรับขนาดและประเภทของเวเฟอร์ที่แตกต่างกัน: โดยทั่วไปแล้ว ALD นั้นได้รับการออกแบบมาเพื่อความเข้ากันได้สูงและสามารถรองรับขนาดและประเภทของเวเฟอร์ที่แตกต่างกัน สิ่งนี้ทำให้มีประสิทธิภาพในกระบวนการผลิตที่หลากหลายซึ่งให้ความยืดหยุ่นและการปรับตัวได้มากขึ้น

ลดต้นทุนการผลิต: เนื่องจากการกระจายก๊าซที่มีประสิทธิภาพและความสามารถในการให้ความร้อนสม่ำเสมอทำให้เกิดการเพิ่มประสิทธิภาพของกระบวนการสะสมซึ่งจะช่วยลดขยะและต้นทุนการผลิต สิ่งนี้ไม่เพียง แต่ช่วยปรับปรุงประสิทธิภาพการผลิต แต่ยังช่วยลดต้นทุนการผลิตได้อย่างมีนัยสำคัญ

คุณสมบัติทางกายภาพพื้นฐานของการเคลือบ CVD SIC:

ร้านค้าผลิต:

ภาพรวมของห่วงโซ่อุตสาหกรรมชิปชิปเซมิคอนดักเตอร์：