ข่าว

ข่าวอุตสาหกรรม

การพัฒนาเทคโนโลยี Tantalum Carbide, มลพิษ epitaxial sic ลดลง 75%?27 2024-07

การพัฒนาเทคโนโลยี Tantalum Carbide, มลพิษ epitaxial sic ลดลง 75%?

เมื่อเร็ว ๆ นี้สถาบันวิจัยชาวเยอรมัน Fraunhofer IISB ได้สร้างความก้าวหน้าในการวิจัยและพัฒนาเทคโนโลยีการเคลือบ Tantalum Carbide และพัฒนาโซลูชันการเคลือบสเปรย์ที่ยืดหยุ่นและเป็นมิตรกับสิ่งแวดล้อมมากกว่าโซลูชันการสะสม CVD
การประยุกต์ใช้เทคโนโลยีการพิมพ์ 3 มิติในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์19 2024-07

การประยุกต์ใช้เทคโนโลยีการพิมพ์ 3 มิติในอุตสาหกรรมเซมิคอนดักเตอร์

ในยุคของการพัฒนาทางเทคโนโลยีอย่างรวดเร็ว การพิมพ์ 3 มิติในฐานะตัวแทนสำคัญของเทคโนโลยีการผลิตขั้นสูง กำลังค่อยๆ เปลี่ยนโฉมหน้าของการผลิตแบบดั้งเดิม ด้วยการเติบโตอย่างต่อเนื่องของเทคโนโลยีและการลดต้นทุน เทคโนโลยีการพิมพ์ 3 มิติได้แสดงให้เห็นโอกาสการใช้งานที่กว้างขวางในหลายสาขา เช่น การบินและอวกาศ การผลิตรถยนต์ อุปกรณ์ทางการแพทย์ และการออกแบบสถาปัตยกรรม และได้ส่งเสริมนวัตกรรมและการพัฒนาของอุตสาหกรรมเหล่านี้
เทคโนโลยีการเตรียม epitaxy ซิลิคอน (SI)16 2024-07

เทคโนโลยีการเตรียม epitaxy ซิลิคอน (SI)

วัสดุผลึกเดี่ยวเพียงอย่างเดียวไม่สามารถตอบสนองความต้องการของการผลิตที่เพิ่มขึ้นของอุปกรณ์เซมิคอนดักเตอร์ต่างๆ ในตอนท้ายของปี 1959 ชั้นบาง ๆ ของเทคโนโลยีการเจริญเติบโตของวัสดุผลึกเดี่ยว - การเติบโตของ epitaxial ได้รับการพัฒนา
X
เราใช้คุกกี้เพื่อมอบประสบการณ์การท่องเว็บที่ดีขึ้น วิเคราะห์การเข้าชมไซต์ และปรับแต่งเนื้อหาในแบบของคุณ การใช้ไซต์นี้แสดงว่าคุณยอมรับการใช้คุกกี้ของเรานโยบายความเป็นส่วนตัว
ปฏิเสธยอมรับ